Gebraucht MICRO-METRIC MicroLine ML420 #9266732 zu verkaufen

MICRO-METRIC MicroLine ML420 Mask & Wafer Inspektion Ausrüstung ist entworfen, um die immer strengeren Anforderungen der Halbleiterherstellung Prozesse zu erfüllen. Es verwendet fortschrittliche optische Technologien und Messtechniken, um die Integrität von Halbleiterbauelementen zu analysieren. Das ML420 ist in der Lage, hochdichte, mehrstufige Muster, Schaltungsstrukturen, Submikron-Merkmale und Fehlerbildung in Tiefen von bis zu zwei Mikrometern zu überprüfen. Das System verfügt über eine automatisierte Stufe, die bis zu 250mm Wafer mit Geschwindigkeiten von bis zu 4K Scans/Sekunde scannen und inspizieren kann. Das ML420 ist auch mit einer einzigartigen Spin Scan-Funktion ausgestattet, die Wafer während der Inspektion drehen kann, wobei ausgewählte Bereiche von Interesse/Defekt hervorgehoben werden. Dies ermöglicht eine tiefergehende Betrachtung jedes KE. Darüber hinaus umfasst das Gerät ein automatisiertes FPV-Modul (Focus Per View), das die Bildfelder während des Scanvorgangs anpasst, um die Oberflächentopographie des Wafers zu kompensieren, was eine höhere Präzision und Genauigkeit bietet. Die ML420 verfügt außerdem über einen leistungsstarken LPP-Algorithmus (Light Path Process), der Muster und Defekte anhand statistischer Kriterien erkennt und die Notwendigkeit einer manuellen Datenvalidierung durch Benutzer minimiert. Die ML420 enthält auch integrierte IQE-Algorithmen (Image Quality Enhancement). Diese Algorithmen verbessern automatisch die aufgenommenen Bilder, wodurch die manuelle Einstellung von Verstärkungs- und Offsetwerten entfällt und die Wiederholbarkeit des Prozesses verbessert wird. Die Maschine kann aufgrund ihrer robusten Optimierungsfunktionen und konfigurierbaren Betriebsparameter auch für eine Vielzahl von Anwendungen wie Resist Imaging, Sub- Pixel Edge Detection und Cross-Line Measurements Inspection verwendet werden. Das ML420 umfasst auch ein integriertes Fehlermanagement-Tool und bietet einen automatisierten Workflow zur Fehlerisolierung, Charakterisierung, Erkennung, Klassifizierung und Kennzeichnung. Dies hilft, die Inspektionszeit zu reduzieren und zu verhindern, dass kritische Mängel fehlen. Darüber hinaus bietet das Asset auch Funktionen zur Datenprotokollierung, -berichterstattung und -diagnose, mit denen Benutzer Probleme in Echtzeit beheben können. Die fortschrittlichen Eigenschaften des MicroLine ML420 Mask & Wafer Inspection-Modells machen es zu einer gewaltigen Lösung für Halbleiterbauelemente. Es liefert zuverlässige und effektive Ergebnisse für die Inspektion von Strukturen hoher Dichte, Submikronen und komplexen Schaltungen, die zu verbesserten Ausbeuten und erhöhter Prozesskontrolle führen können. Dies macht die ML420 zu einer Top-Wahl für Unternehmen, die nach fortschrittlichen optischen Inspektionslösungen suchen.