Gebraucht MOLECULAR IMPRINTS Imprio 55 SFIL #9037906 zu verkaufen

MOLEKULARE IMPRINTS Imprio 55 SFIL ist eine Maske und Wafer Inspektion Ausrüstung, die Rasterelektronenmikroskopie (SEM) verwendet, um Sub-Mikron-Ebene Defekt-Detektion Genauigkeit zur Verfügung zu stellen. Es wurde entwickelt, um vorgemusterte und Vorrichtungsmaskenschichten sowohl auf starren als auch auf elastisch verformbaren Substraten zu überprüfen. Das System bietet automatisierte, zerstörungsfreie Bildgebung mit beispielloser Auflösung auf Wafer-Ebene, so dass Defekte sowohl in herkömmlichen bildgebenden als auch in spektroskopischen Modi genau identifiziert und charakterisiert werden können. Der Imprio 55 enthält eine hochenergetische SEM-Elektronenquelle, die Strahlenergien bis zu 6 keV erzeugen kann. Dies bietet eine höhere Empfindlichkeit für eine Vielzahl von fehlerbezogenen Analysen bei gleichzeitiger Verringerung der Gesamtpartikel-/Punktgröße. Die Pixelrate des Imprio 55 beträgt bis zu 1,2 Millionen pro Sekunde, was eine schnelle Akkumulation von Bildern und Daten sowohl im Oberflächen- als auch im Querschnittsmodus ermöglicht. Die fortschrittlichen Optik- und Bildgebungsfunktionen des Imprio 55 unterscheiden sich von anderen Masken- und Wafer-Inspektionssystemen. Zum Beispiel bietet es hochentwickelte virtuelle, rauscharme Bildgebung, die mehrere monochromatische Elektronenquellen mit verbesserter Polarisation verwendet. Dies gibt ihm eine ausgezeichnete Auflösung und einen genaueren Kontrast für die Ermittlung von Fehlern, unabhängig von ihrer Größe oder Position auf dem Wafer. Darüber hinaus ermöglicht die einzigartige Scan-Steuerungsfunktion des Imprio 55 Benutzern die Konfiguration ihrer Einheit für Inspektionen an einem oder mehreren Standorten. Damit entfällt die Notwendigkeit manueller Anpassungen, um die gewünschten Fähigkeiten zur Bildgebung und Fehlererkennung zu erreichen. Der Imprio umfasst auch automatisierte Mustererkennungstechniken, die eine sauberere, schnellere Bildgebung im Vergleich zu manuellen Techniken ermöglichen. In Kombination mit seiner Fernbedienung ermöglicht das Imprio 55 den Anwendern, den Betrieb fernab der Maschine zu überwachen. Es verfügt auch über eine automatisierte Prozessüberwachung, die für die Produktionslinienüberwachung und Prozesssteuerung verwendet werden kann. Schließlich kommt das Tool mit einer Reihe von leistungsfähigen Software-Tools und Fähigkeiten, einschließlich 3D-Bildanalyse, Histogrammanalyse, und Feature-Erkennung. Imprio 55 SFIL von MOLECULAR IMPRINTS ist eine zuverlässige und leistungsstarke Masken- und Wafer-Inspektion, die entwickelt wurde, um Fehler auf Submikron-Niveau mit hoher Präzision zu erkennen und zu charakterisieren. Seine fortschrittlichen bildgebenden Komponenten und automatisierten Funktionen machen es zu einem idealen Werkzeug für die Überwachung, Prozesskontrolle und Fehleranalyse auf traditionellen und verformbaren Substraten.