Gebraucht MOLECULAR IMPRINTS Imprio 55 #293590454 zu verkaufen

MOLEKULARE IMPRINTS Imprio 55 ist eine umfassende Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die speziell entwickelt wurde, um maximale Bedienflexibilität während des Halbleiterherstellungsprozesses zu gewährleisten. Das System bietet schnelle, genaue und wiederholbare Messungen kritischer Merkmalsgrößen sowie Schicht- und kritische Overlay-Eigenschaften über die gesamte Palette von Substratmaterialien. Imprio 55 besteht aus einem hochauflösenden optischen Wafer-bildgebenden Teilsystem mit einem oben montierten Maskenprüfkopf, der eine gleichzeitige Betrachtung sowohl der oberen als auch der unteren Maskenoberfläche ermöglicht. Das bildgebende Teilsystem verfügt über fünf optische Kanäle, einschließlich Laserdiode und Moire-Phasenverschiebung, die eine optimierte Bildgebung mit einer proprietären Bildverarbeitungsarchitektur zur schnellen und genauen Erkennung von Fehlern bieten. Das Gerät bietet auch eine zirkular polarisierte Lichtprüfung für isotrope Oberflächeninspektionen. Zusätzlich zu seinen optischen Abbildungsmöglichkeiten ist das MOLECULAR IMPRINTS Imprio 55 mit einer leistungsstarken In-situ-Be- und Positioniermaschine ausgestattet, die eine schnelle Positionierung und Inspektion von bis zu 12 Masken im unbeaufsichtigten Betrieb ermöglicht. Eine zentrale Bedienkonsole mit einer intuitiven grafischen Benutzeroberfläche und Unterstützung für eine Vielzahl von Datenanalysetools ermöglicht Benutzern den Zugriff auf vordefinierte Inspektionsprofile und die Möglichkeit, individuelle Einrichtungs- und Analyseparameter anzupassen. Mehrere Overlay-Modi bieten die Flexibilität, eine Vielzahl von Ausrichtungsspezifikationen mit Hilfe einer Präzisions-2-Achsen-Stufe zu überprüfen. Imprio 55 bietet auch ein integriertes Messpaket mit einer Reihe von fortschrittlichen Messlösungen, darunter CD, kritische Abmessungen, Koordinaten und Linienbreitenmessungen sowie Overlay-Positionen, flache Oben/Unten und Overlay-Ergebnisse mit hohem Kontrast. Darüber hinaus unterstützt es mehrere High-End-statistische Prozesskontrollmodi, Analysen und Berichte speziell für die Prozesskontrolle, einschließlich der vollständigen Registrierung. Kurz gesagt, MOLECULAR IMPRINTS Imprio 55 Maske & Wafer Inspektionswerkzeug von MOLECULAR IMPRINTS wurde entwickelt, um die Flexibilität, Genauigkeit und Wiederholbarkeit für die Halbleiterherstellung zu bieten. Seine hochauflösende optische Ausstattung, automatisierte Wafer-Beladung und -Positionierung, raffinierte Bildverarbeitung und integrierte Messtechnik ermöglichen es dem Modell, fortschrittliche Inspektionen und Analysen von Masken und Wafern schnell und zuverlässig durchzuführen und so Produktionszeit und -kosten zu minimieren.