Gebraucht NANO OPTICS HAZE 2 #9231852 zu verkaufen

NANO OPTICS HAZE 2 ist eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die hochauflösende Bilder mit Funktionen liefert, die selbst die leistungsstärksten verfügbaren optischen Mikroskope übertreffen. Das System nutzt die fortschrittliche und revolutionäre nanoskalige Optik-Technologie, um Fehler in Masken und Wafern mit einer Auflösung von bis zu 500 Nanometern genau zu erkennen und zu charakterisieren. Das Gerät kann problemlos Bereiche von bis zu 400x400 Mikrometer scannen und ist damit das leistungsstärkste Werkzeug für die Masken- und Waferinspektion. HAZE 2 ist mit einem dualen Femtosekundenlaser, einem akustooptischen Strahlteiler, einem seitlichen Abstandsaktuator und einem erweiterten Steuermodul ausgestattet. Der Laser, das Herzstück der Maschine, bietet eine saubere und präzise bildgebende Erfahrung mit einem hohen Kontrast und Genauigkeit. Der akustooptische Strahlteiler versorgt die optische Baugruppe mit einem sauberen und fokussierten Lichtstrahl. Der seitliche Abstandsaktuator ermöglicht extrem hohe Präzisionseinstellungen, um etwaige Aberrationen zwischen der Oberfläche der Maske oder des Wafers und der Optikbaugruppe zu berücksichtigen. Schließlich wird das Steuermodul verwendet, um das gesamte Werkzeug zu automatisieren und sicherzustellen, dass jeder Scanvorgang mit höchster Bequemlichkeit und Genauigkeit abgeschlossen wird. Die Anlage ist darauf ausgelegt, auch kleinste Fehler mit Genauigkeit und Zuverlässigkeit zu erkennen. Alle Erkennungen werden klar kommentiert und in einem präzisen und leicht lesbaren Format gemeldet, was es Anwendern erleichtert, die Informationen zur Verbesserung zu verstehen und zu verwenden. Das Modell basiert auf den höchsten Standards der nanoskaligen Bildgebungstechnologie und ist für seine hohe Prüfgenauigkeit und Zuverlässigkeit zertifiziert. NANO OPTICS HAZE 2 ist eine fortschrittliche und zuverlässige Ausrüstung für die Masken- und Waferinspektion. Seine hochauflösenden Bildgebungsfunktionen übertreffen selbst die leistungsstärksten optischen Mikroskope und seine automatisierten Steuerungsfunktionen machen es zu einem einzigartigen Werkzeug. Es ist für seine zuverlässigen und genauen Untersuchungsergebnisse zertifiziert und bietet Anwendern eine beispiellose Erfahrung bei der Inspektion von Masken und Wafern auf Defekte.