Gebraucht NANOMETRICS 200 #9199415 zu verkaufen

NANOMETRICS 200 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage, die erweiterte Bildaufnahme-, Analyse- und Visualisierungsfunktionen bietet. Seine Scantechnologie ist in der Lage, hochauflösende Bilder auf Masken und Wafern mit beispielloser Detailtreue zu erfassen. Die physikalischen Komponenten des Systems bestehen aus einer Lichtquelle, einem Abtastkopf, einer Linse, einer elektronischen Einheit und einem Controller. Die Optikkomponente besteht aus einem optischen Filter, Fokussierobjektiv, Zoomobjektiv und Fokussieroptik. Die Lichtquelle liefert UV-, Weiß- und IR-Beleuchtung für abgebildete Proben auf einem Wafer oder einer Maske. Der Abtastkopf dient zur Erfassung der von der Lichtquelle und der Linse erzeugten Bildsignale. Die Linse wird in Kombination mit der Abbildungsoptik und dem Filter zur Erzeugung eines sehr detaillierten, zu analysierenden Bildes verwendet. Die elektronische Komponente der Maschine wird verwendet, um die Bilder automatisch zu verarbeiten. Es verfügt über erweiterte Bilderkennung, Objektzählung, KE-Erkennung und Tilt & Rotate Algorithmen, die jede Funktion auf einer Maske oder einem Wafer erkennen und identifizieren können. Darüber hinaus verfügt es über Tools zur Automatisierung der Analyse und Interpretation von Ergebnissen, wodurch es einfacher ist, Bilder über mehrere Facetten zu vergleichen. 200 enthält auch eine erweiterte Bildvisualisierungsfunktion, mit der Benutzer ein detailliertes Bild in verschiedenen Winkeln und Zoomebenen anzeigen können. Dies ermöglicht eine einfache Identifizierung und Analyse von Interessengebieten. Die grafische Benutzeroberfläche (GUI) des Tools ermöglicht es Benutzern, einfach auf alle Funktionen zuzugreifen und diese zu steuern. Insgesamt ist NANOMETRICS 200 eine umfassende Masken- und Wafer-Inspektion, die erweiterte Bildaufnahme-, Analyse- und Visualisierungsfunktionen in einem einfachen, einfach zu bedienenden Paket bietet. Seine leistungsstarken Optimierungs- und Analysetools, kombiniert mit seiner intuitiven Oberfläche, ermöglichen es Anwendern, detaillierte Bilddaten komplexer Masken- und Waferstrukturen schnell zu überprüfen und zu vergleichen.