Gebraucht NANOMETRICS 200 #9226184 zu verkaufen

NANOMETRICS 200 ist eine hochmoderne Masken- und Waferinspektionsanlage, die hochpräzise 3D-Messtechnik und Fehlerauflösungsfunktionen bietet. Es wird verwendet, um sowohl Oberflächen- als auch Unterflächendefekte in Halbleiterbauelementen und Materialien zu erkennen. 200 kombiniert fortschrittliche nanoskalige Bildgebungstechnologien mit umfassenden Bildverarbeitungsalgorithmen. Das System bietet eine Vielzahl von Messmodi für die Masken- und Waferinspektion und kann sogar so konfiguriert werden, dass die Form der Kante der Maske oder des Wafers gemessen wird. Die Einheit besteht aus einer Hardwareeinheit, die ein Array von hochauflösenden Linsen, einen Abtastkopf, eine Bildaufnahmeeinrichtung und eine motorisierte Bühnenmaschine enthält, die Bühnenposition und Bewegung steuert. Die Hardwareeinheit ist mit einem Rechner verbunden, der die Benutzeroberfläche, Bildverarbeitungsalgorithmen und andere Funktionen bereitstellt. Die Software-Suite umfasst eine Vielzahl von Tools zur Inspektion von Masken und Wafern, wie Fehlerverfolgung, statistische Prozesskontrolle, fortschrittliche Oberflächenrekonstruktion und Prozessoptimierung. NANOMETRICS 200 verwendet eine Vielzahl von bildgebenden Verfahren für eine Vielzahl von Anwendungen. Diese bildgebenden Techniken umfassen Reticle Focusing Imaging (RFI), High Resolution Imaging (HRI), Patterned Light Imaging (PLI), Area Array Imaging (AAI) und Electron Beam Imaging (EBI). Diese Techniken tragen dazu bei, dass alle Oberflächen- und Unterflächendefekte genau und zuverlässig erkannt werden. Zusätzlich zu seinen Präzisionsmasken- und Wafer-Inspektionsmöglichkeiten können 200 zur Messung von Formmerkmalen, zur Lösung von dimensionsbezogenen Prozessproblemen und zur Erkennung selbst kleinster prozessbedingter Defekte verwendet werden. Das Werkzeug ist auch mit einer automatisierten Fehlerklassifizierung und Sortierbarkeit ausgestattet, wodurch es einfacher ist, verschiedene Fehlertypen zu ermitteln und zu unterscheiden. NANOMETRICS 200 ist in der Lage, große Bereiche zu scannen und zu messen, so dass es mehrere Masken- und Wafer-Inspektionsaufgaben mit Leichtigkeit erledigen kann. Seine fortgeschrittenen Analyse-Algorithmen können sogar die meisten Minuten von Defekten erkennen, um sicherzustellen, dass Kunden genaue Ergebnisse erhalten. Seine zuverlässige Bedienung, kombiniert mit seiner intuitiven Benutzeroberfläche, macht es zu einer guten Wahl für Masken- und Wafer-Inspektionsaufgaben.