Gebraucht NANOMETRICS 210 #9123978 zu verkaufen

NANOMETRICS 210 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, ideal für den Einsatz in der Halbleiterherstellung und -inspektion. Dieses System verwendet einen hochmodernen spektralen Abtastalgorithmus, um schnelle und genaue Inspektionsergebnisse zu liefern. Das Gerät bietet zwei unabhängige Inspektionsmodi, einen hochauflösenden Modus und einen hochdynamischen Bereichsmodus, so dass Benutzer eine breite Palette von Substraten mit Details und Klarheit inspizieren können. 210 Maschine enthält ein modernes optisches Werkzeug, das aus fortschrittlichen optischen Komponenten wie Objektivlinsen, Lichtschildern und Beleuchtungsquellen besteht. Dieses optische Element hat eine ausgezeichnete Auflösung von 0,5 µm und gewährleistet genaue und zuverlässige Ergebnisse. Darüber hinaus nutzt die optische Ausrüstung des Modells Spaltscannen und Feldscannen für die Hochgeschwindigkeits- und Tiefendatensammlung. Darüber hinaus integriert das System NANOMETRICS 210 einen innovativen monochromen bimolaren Kettenabbildungsalgorithmus. Dieser Algorithmus ermöglicht es dem Gerät, Fehler in Mustern und Abmessungen einer Vielzahl von Substraten zu erkennen, einschließlich transparenter, metallischer und grauer Skala. Die Kombination aus optischer Maschine und bildgebendem Algorithmus sorgt für eine präzise und schnelle Bildverarbeitung. Diese Kombination ermöglicht es dem Werkzeug, hochauflösende Bilder mit einem Bereich von über 10 µm und einem ausgezeichneten Dynamikbereich zu erzeugen. Darüber hinaus ist die Anlage mit einer modularen Software-Suite ausgestattet, die zur Analyse und Fehlerinspektion geeignet ist. Die Software beinhaltet Werkzeuge für Maskeninspektionen und Fehlerklassifizierung, Fehlerstandsmessung und -überprüfung sowie die Möglichkeit, Fehler unter Beibehaltung niedriger Fehlalarmraten auszuwählen, zu lokalisieren und zu messen. 210 ist auf die Anforderungen der Halbleiterherstellung ausgelegt. Das Modell bietet schnellen Durchsatz, hohe Auflösung, Genauigkeit, niedrige Fehlalarmraten und eine Vielzahl von Analysetechniken, die in seiner Software implementiert sind. Diese Komponenten, zusammen mit einer breiten Palette von Substraten und Defekt-Typen kann es inspizieren, ermöglicht eine schnelle und genaue, Hochleistungs-Halbleiter-Produktion.