Gebraucht NANOMETRICS 210 #9160092 zu verkaufen

NANOMETRICS 210
ID: 9160092
Thin film thickness measurement system, 4" Range of thicknesses: 100 to 500,000 angstroms Spot size: 50 um with 5x objective 25 um with 10x objective 6.5 um with 40x objective Olympus M10x and M40x objective Optional objectives are Olympus M5X and M100X Film types: Oxide on silicon Nitride on silicon Negative resist on silicon Polysilicon on oxide Negative resist on oxide Nitride on oxide Polyimide on silicon Positive resist on silicon Positive resist on oxide Reflectance mode Thick films reproducibility: 5A ± 5% depend Typical measurement time: 2.5 seconds.
NANOMETRICS 210 Mask & Wafer Inspection Equipment ist eine revolutionäre automatisierte Lösung zur Überprüfung des Fortschritts der Herstellung von Halbleitern und anderen mikroelektronischen Bauelementen. Mit seiner branchenführenden Optik, automatisierten Bewegungsstufen und intuitiver Software bietet 210 Benutzern ein unglaublich detailliertes Bild ihrer Produkte, um Genauigkeit zu gewährleisten und eine schnelle Entscheidungsfindung zu erleichtern. NANOMETRICS 210 verfügt über eine Reihe von Werkzeugen und Inspektionsmöglichkeiten, die alle von NANOMETRICS führenden, hochgenauen optischen Systemen unterstützt werden. Dieses System kann winzige Variationen in den Merkmalen einer Maske oder eines Wafers wie Mustergrößen und -form, Linienbreiten und -abstände sowie das Fehlen, Vorhandensein und die Position von KEs schnell erkennen und messen. Darüber hinaus ist 210 auch in der Lage, andere Eigenschaften wie Farbe, Kontrast, Geometriekontinuität und Registriergenauigkeit zu überprüfen. Mit den vielfältigen Auflösungs- und Kalibrierungsmöglichkeiten von NANOMETRICS 210 haben Anwender Zugriff auf einen unglaublich umfassenden Einblick in ihre Wafer. Das Gerät bietet auch eine robuste Software-Suite, die Inspektionsprozesse für Benutzer vereinfacht. Von Anfang bis Ende des Projekts wurden 210 Benutzeroberflächen entwickelt, um eine intuitive Bedienung zu ermöglichen. Mit automatisierten Funktionen wie Substrathandling, thermischer Stabilisierung und automatisierten Scans haben Anwender die volle Kontrolle über ihre Projekte. Darüber hinaus bietet die NANOMETRICS 210 Software Analysetools wie Graphing und Trace-Funktionen, mit denen Benutzer den Zustand ihrer mikroelektronischen Geräte genau beurteilen können. 210 wurde entwickelt, um den Testprozess zu erleichtern und gleichzeitig beispiellose Genauigkeit und Zuverlässigkeit zu bieten. Seine branchenführenden Optik- und Bewegungsstufen bieten hochpräzise Inspektionsmöglichkeiten und seine intuitive Software ermöglicht es Benutzern, ihre Projekte von Anfang bis Ende effizient zu verwalten. NANOMETRICS 210 ist ein Muss Maschine für jedermann in der Mikroelektronik Fertigungsindustrie haben.
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