Gebraucht NANOMETRICS 565 094 329 #9242380 zu verkaufen

NANOMETRICS 565 094 329 Masken- und Wafer-Inspektionsgeräte sind ein fortschrittliches optisches Werkzeug, mit dem Photolithografen und Ertragsingenieure Fehler auf Nanometerauflösungsebene erkennen können. Dies ermöglicht es ihnen, mikrostrukturelle Fehler bei der Herstellung von Halbleitern und anderen fortschrittlichen Mikrobauelementen zu identifizieren, was letztlich zu verbesserten Erträgen und schnellerer Markteinführungszeit führt. Das System ist für den Einsatz in den Reinräumen jeder fortschrittlichen Chip-Produktionsanlage konzipiert und nutzt die gleiche Umgebung, die für die Durchführung von Chip-Herstellungsprozessen verwendet wird. In diesen Reinräumen wird NANOMETRICS Masken- und Wafer-Inspektionseinheit eingesetzt, um Fremdkörperschutt oder „FODs“ zu identifizieren, die in den Arbeitsbereich zwischen Schichten der Konstruktion eingedrungen sind. Neben FODs ist die Maschine auch in der Lage, Oberflächenfehler, Fehlstellungen und andere Unregelmäßigkeiten, die innerhalb des Geräts auftreten können, zu erkennen. Dies geschieht durch die Nanometerauflösungsfähigkeit des Werkzeugs, um die Geräteschicht schichtweise zu inspizieren, um solche Unregelmäßigkeiten zu erkennen. Die vom Asset verwendeten Muster-Matching-Algorithmen können Muster erkennen, die auf das Vorhandensein eines Fehlers hinweisen können. Dadurch wird auch die höchste Genauigkeit der zu überprüfenden Merkmale gewährleistet. NANOMETRICS-Modell verwendet auch Filter, um das zu untersuchende Probenbild anzuzeigen. Diese Filter verwenden ultraviolettes Licht, sichtbares Licht, Infrarotlicht und andere Wellenlängen, um unterschiedliche Auflösungsstufen bereitzustellen, um die Fehlererkennung sicherzustellen. Das Gerät verfügt auch über eine qualitativ hochwertige Bildaufnahmeschnittstelle, mit der Fotolithographie-Ingenieure Bilder zur Nahkontrolle speichern können. Diese Bilder können gespeichert, abgerufen oder unter mehreren Mitgliedern des Software-Engineering-Teams geteilt werden. Neben der Fehlererkennung bei Nanometerauflösung verfügt 565 094 329 auch über mehrere weitere Funktionen wie Bühnenbewegungssteuerungen, automatische Messfunktionen, mehrere interessante Bereiche, eine intuitive Benutzeroberfläche und eine einfach zu bedienende Hardwaresteuerung. NANOMETRICS 565 094 329 Masken- und Wafer-Inspektionssystem ist das führende Werkzeug zur Qualitätskontrolle und Fehlererkennung bei der Herstellung von Halbleiter- und anderen mikroelektronischen Geräten. Diese Einheit hat die Industrie revolutioniert und ermöglicht höhere Erträge und schnellere Geschwindigkeiten auf dem Markt.