Gebraucht NANOMETRICS 6100X #9157662 zu verkaufen

NANOMETRICS 6100X Masken- und Wafer-Inspektionsgeräte sind eine leistungsstarke und vielseitige bildgebende Lösung zur Prüfung und Inspektion von Photomasken und Wafern. Es ist ein aberrationsfreies Bildgebungssystem, das eine unübertroffene Auflösung und Genauigkeit bietet. Es bietet eine 4k-Optikauflösung mit mehr als einer Billion Pixel am bildgebenden Sensor. Die NANOMETRICS 6100 X Masken- und Wafer-Inspektionseinheit verwendet modernste Bildverarbeitungstechnologie, um ein Höchstmaß an Bildanalyse und Mustererkennung zu erreichen. Es bietet eine hohe Schärfentiefe und einen optimalen Dynamikbereich für eine Vielzahl von bildgebenden Anwendungen. Es verfügt auch über eine fortschrittliche Beleuchtungsmaschine, die eine Mischung aus Hellfeld, Dunkelfeld, schräge und polarisierte Beleuchtung umfasst. Dieses Beleuchtungswerkzeug kann mit Laserscanning-Messtechnik, rauscharmen Detektoren und hochauflösender Bildgebung kombiniert werden, um eine ideale und vielseitige bildgebende Lösung zu schaffen. 6100X Masken- und Wafer-Inspektion ermöglicht einen besseren Fokus für höherauflösende Bilder in einem großen Sichtfeld. Mit der Fähigkeit, sich wiederholende Muster abzubilden, kann es verwendet werden, um mehrschichtige, mehrstufige und komplexe strukturierte Strukturen zu überprüfen. Das Modell verfügt auch über eine erweiterte Auto-Learning-Funktion, die Fehler reduzieren und die Genauigkeit der Bilder verbessern kann. 6100 X Masken- und Wafer-Inspektionsgeräte verfügen über eine intuitive Benutzeroberfläche und leistungsstarke Bildanalysefunktionen. Es kann darauf zugeschnitten werden, eine ganze Waferanalyse zusammen mit statistischen Prozesskontroll- (SPC) Algorithmen für anspruchsvolle Musteranalysen einzubeziehen. Diese Kombination aus Hochleistungsoptik, Bildverarbeitungs- und Bildverarbeitungstechnik sorgt für eine möglichst hohe Ausbeute und zuverlässige Prozesssteuerung. NANOMETRICS 6100X Mask and Wafer Inspection System ist eine bildgebende Lösung mit einer perfekten Kombination aus intuitiver Benutzeroberfläche, fortschrittlicher Bildverarbeitung und Hochleistungsoptik. Es ist eine ideale Einheit zur Charakterisierung und Inspektion von Photomasken und Wafern bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen. Diese Maschine kann verwendet werden, um komplexe Strukturen mit höherer Schärfentiefe und Bilder mit höherer Auflösung zu erkennen und zu analysieren und gleichzeitig zuverlässige und genaue Ergebnisse für die Prozesskontrolle zu liefern.