Gebraucht NANOMETRICS 7000-019630 #9095996 zu verkaufen

NANOMETRICS 7000-019630 Mask & Wafer Inspection Equipment ist ein fortschrittliches Wafer- und Maskeninspektionssystem, das eine detaillierte und detaillierte Ansicht von Wafern und Maskenfunktionen bietet. Es verfügt über eine einzigartige patentierte Objektiveinheit, die Bilder bis zu 1000-mal schneller als herkömmliche Systeme aufnehmen kann. Dies ermöglicht eine viel höhere Auflösung der Bildgebung, wodurch Fehler in Wafern und Masken leichter behoben und dokumentiert werden können. Diese Maschine verwendet eine Vielzahl von visuellen und Scanwerkzeugen wie digitale Mikroskope, CCD-Kameras und optische Systeme. Diese Werkzeuge sind in der Lage, eine Vielzahl von Merkmalen auf einer Wafer- und Maskenoberfläche zu messen und bieten einen umfassenden Blick auf die Oberfläche des Wafers und der Maske. Das optische Betrachtungsobjekt des Werkzeugs ist in der Lage, Bilder von 2,5-1,6 μ m Größe über die gesamte Wafer- und Maskenoberfläche zu erfassen. Es verwendet ein maßgeschneidertes optisches Sondenmodell, um detaillierte Bilder und interessante Bereiche zu erfassen. Erweiterte Software ermöglicht eine einfache Manipulation und 3D-Rekonstruktion von Bildern. NANOMETRICS Equipment verwendet auch mehrachsige Stufen und kann den Wafer und die Maske in X-, Y- und Z-Richtung bewegen. Dies ermöglicht eine präzise Abbildung von Merkmalen und Defekten auf der Oberfläche von Wafer und Maske. Die Bühne kann sich drehen und neigen, um die Ansicht zu ändern und Bereiche zu inspizieren, so klein wie 0,1 μ m. Das System ist zudem mit einer leistungsstarken Bildanalyse und Echtzeit-Anzeigefähigkeit ausgestattet. Die leistungsstarke Software ist in der Lage, Wafer- und Maskenfehler genau zu erkennen und komplexe Bildvergleiche durchzuführen. Fehleranalyseergebnisse können über mehrere Mitarbeiter und Systeme zur Fehlerverfolgung verteilt werden. 7000-019630 Mask & Wafer Inspection Unit ist eine leistungsstarke, modulare Maschine, die Wafer- und Maskenfunktionen effizient und präzise beobachten und dokumentieren kann. Mit seiner hochwertigen optischen Bildgebungsfähigkeit, der mehrachsigen Stufe, der Bildanalyse und der Echtzeit-Anzeigetechnologie ist es eine großartige Lösung für diejenigen, die eine eingehende Untersuchung ihrer Wafer- und Maskenoberflächen suchen.