Gebraucht NANOMETRICS 8000XSE #9230881 zu verkaufen

ID: 9230881
Wafergröße: 8"
Thickness measurement system, 8".
NANOMETRICS 8000XSE ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage der nächsten Generation, die eine hervorragende Leistung sowohl in der Produktion als auch in der Forschung und Entwicklung bietet. NANOMETRICS 8000 XSE-System kombiniert hochauflösende Bildgebung, fortschrittliche Mustererkennung und anspruchsvolle Software-Tools, um umfassende Wafer- und Maskeninspektionen zu ermöglichen. Das Gerät verwendet eine patentierte optische Bildgebungstechnologie, um eine stark erhöhte Bildauflösung zu erzielen. Mit dieser Technologie kann die Maschine Fehlerfunktionen sowohl an Wafern als auch an Masken bis auf 12nm erkennen. Dies hilft bei der Identifizierung und Minimierung von Risiken im Zusammenhang mit geräuscharmen Lithographieprozessen wie der doppelten Strukturierung und hilft auch dabei, prozessbezogene und Line-Edge-Effekte zu identifizieren. 8000XSE kann nahtlos in bestehende Fertigungslinien für Wafer integriert werden und kann verschiedene Arten von Masken- und Waferinspektionswerkzeugen ausführen, einschließlich automatischer Belichtungssysteme, Messtechnik und Fehlerüberprüfungssysteme. Es kommt mit hohem Durchsatz Modus entworfen, um die Produktivität zu erhöhen und schnellere Zykluszeiten zu bieten, während auch genaue Messungen zur Verfügung stellen. Da das Werkzeug für den Betrieb in einer Produktionsumgebung konzipiert ist, ist es mit fortschrittlichen Umweltkontrollen ausgestattet, die Staub, Vibrationen und Schäden an Wafern während des Betriebs verhindern. Die erweiterten Mustererkennungsfunktionen des Assets ermöglichen es, kleine Fehler, die bei herkömmlichen Systemen möglicherweise nicht sichtbar sind, genau zu erkennen. Dies ist sehr vorteilhaft, wenn es darum geht, sowohl musterbezogene als auch prozessbezogene Fehler zu erkennen, die in einem herkömmlichen Inspektionsmodell schwer zu erkennen sein können. Neben seiner zuverlässigen Bildgebungstechnologie und den fortschrittlichen Mustererkennungsfunktionen verfügt 8000 XSE auch über eine ausgeklügelte Software-Suite, die dazu beiträgt, den Bedarf an manueller Inspektion und den damit verbundenen Kosten zu reduzieren. Diese Software-Suite kann Aufgaben wie Bildvergleich, Fehlerklassifizierung und -analyse sowie Datenspeicherung und -abruf übernehmen. Die Software-Tools sind benutzerfreundlich gestaltet und ermöglichen es Ingenieuren, Prozessprobleme und -mängel leicht zu erkennen und zu beheben. NANOMETRICS 8000XSE ist eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die sowohl für Produktions- als auch für Forschungs- und Entwicklungsmärkte geeignet ist. Die fortschrittliche optische Bildgebungstechnologie und anspruchsvolle Software-Tools machen es zu einer attraktiven Wahl für jeden Inspektionsauftrag.
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