Gebraucht NANOMETRICS 8000XSE #9384474 zu verkaufen

NANOMETRICS 8000XSE ist eine erstklassige Ausrüstung für die Masken- und Waferinspektion, die speziell für Front-End-Halbleiterprozesse entwickelt wurde. Es verwendet modernste Optik, eine empfindliche lineare Stufe und einen ultraschwachen Rauschabbildungssensor, um die Genauigkeit von Sub-Nanometern zu erreichen. Mit proprietären, patentgeschützten Algorithmen erkennt und inspiziert NANOMETRICS 8000 XSE schnell und zuverlässig Wafer- und Maskeneigenschaften und Defekte. Es verfügt über ein modernes optisches Design, das Vibrationen eliminiert, und eine spezialisierte bildgebende Technologie, die Empfindlichkeit und Geschwindigkeit verbessert. Zur Maskeninspektion scannt 8000XSE die gesamte belichtete Waferoberfläche mit einem rauscharmen Bildgebungssystem. Es inspiziert Kanten, Ecken und andere Anomalien, die vom menschlichen Auge nicht gesehen werden können, und prüft dann auf Genauigkeit und Zelltreue. Es kann auch bis zu 5 µm kritische Maßmerkmale im maskendefinierten Bereich untersuchen. Für die Wafer-Inspektion verwendet 8000 XSE die gleiche Panorama-Bildgebungstechnologie, jedoch mit einer noch höheren Genauigkeit. Es verwendet eine Reihe leistungsfähiger Algorithmen, um wichtige Parameter wie CD (kritische Dimension) und OPC (optische Näherungskorrektur) zu berechnen. Das Gerät ist in der Lage, tiefste Defekte bis zu 0,2 µm zu erkennen. Für die Masken- und Waferinspektion bietet NANOMETRICS 8000XSE einen automatisierten Überprüfungsprozess, der jedes gescannte Bild überprüft und genehmigt. Es bietet auch eine automatische Pass/Fail-Analyse des gescannten Bildes unter Verwendung von Echtzeitanalysen sowie gespeicherten Referenzbildern. Für zusätzlichen Komfort kann die Maschine über eine intuitive Weboberfläche ferngesteuert werden. Diese benutzerfreundliche Oberfläche bietet Echtzeitzugriff auf alle relevanten Daten, Einstellungen und Scanergebnisse. Abschließend ist NANOMETRICS 8000 XSE ein modernes Inspektionsinstrument für Halbleiterherstellungsprozesse. Es bietet hohe Genauigkeit, Zuverlässigkeit und Geschwindigkeit und ist die perfekte Wahl für diejenigen, die ein umfassendes Masken- und Wafer-Inspektionsmodell suchen.