Gebraucht NANOMETRICS 9010 #293590700 zu verkaufen

NANOMETRICS 9010 Mask & Wafer Inspection Equipment ist ein automatisiertes optisches Inline-Inspektionssystem, das verschiedene Defekte an Wafermustern messen, charakterisieren und klassifizieren kann. Es dient zur Erkennung und Klassifizierung verschiedener Drucke, Defekte und Masken bei der Herstellung integrierter Halbleiterschaltungen. Das Gerät basiert auf dem Prinzip der optischen Bildgebung und verwendet hochauflösende bildgebende Verfahren, um eine höhere Genauigkeit und Wiederholbarkeit zu ermöglichen. Die Maschine besteht aus mehreren Hochleistungsoptiken, die es ermöglichen, Bilder von Wafern und Masken zerstörungsfrei zu erfassen und zu analysieren. Es kommt mit einer hochauflösenden monochromen CCD-Kamera für die Bildgebung und einer eingebauten Software für Inspektionen und Messungen. Alle Komponenten sind gemeinsam auf einer Präzisionsplattform integriert, die präzise und wiederholbare Ergebnisse ermöglicht. Das Werkzeug verfügt über einen großen Arbeitsbereich zur Vermessung großer Masken und Wafer, mit einem maximalen Sichtfeld von bis zu 180mm x 180mm. Das Asset nutzt seine leistungsstarken Stereomikroskope, die eine 10x/0.25NA, eine 40x/0.5NA und eine 90x/1.1NA besitzen. 9010 Mask & Wafer Inspektionsmodell ist in der Lage, hohe Ergebnisse von verschiedenen Arten von Wafermustern und Masken zu liefern. Es kann Defekte auf einer Vielzahl von Materialien wie Silizium, Polymer und organischen Substraten erkennen und klassifizieren. Das Gerät verfügt über eine integrierte Parameterbibliothek und kann so programmiert werden, dass eine Vielzahl von Layoutfunktionen wie Linienbreite, Steigung und Kanten gemessen werden. Es kann auch prozessbezogene Fehler wie Überlappen, Überbrücken und Nähen erkennen. Darüber hinaus ist es in der Lage, automatisierte Nähte an Inspektionsmaskenrändern, Sub-Pixel-Nähten und Post-Stitching-Inspektion über Platzhalterklassen. Dadurch wird sichergestellt, dass die Maske, die vom Wafer gesehen wird, gültig ist und keine Fehler enthält. Die Ergebnisse der Inspektionen können in verschiedenen Formaten wie PDF, TIFF und CSV analysiert und gespeichert werden. Die Benutzeroberfläche ist einfach und benutzerfreundlich und bietet eine einfache Möglichkeit, die Daten einzusehen und zu analysieren. Der Benutzer ist auch in der Lage, die Systemeinstellungen anzupassen, um die Art der Fehler anzugeben, die er erkennt. Insgesamt ist NANOMETRICS 9010 Mask & Wafer Inspection Unit ein vielseitiges und genaues Werkzeug zur Erkennung und Klassifizierung verschiedener Wafermuster und Masken. Mit seiner einfachen Benutzeroberfläche und der Fähigkeit, hochauflösende Bilder zu erfassen und zu analysieren, ist es ein unschätzbares Werkzeug für die Halbleiterindustrie.