Gebraucht NANOMETRICS 9010 #293764395 zu verkaufen

NANOMETRICS 9010
ID: 293764395
Thickness measurement systems.
NANOMETRICS 9010 Mask & Wafer Inspection Equipment ist ein fortschrittliches automatisiertes System zur Inspektion und Überprüfung von Photomasken und Wafern. Das Gerät kann die Qualität der Masken und Wafer überprüfen sowie Defekte und Verunreinigungen in der Wafer- und Maskenoberfläche erkennen. Die Maschine basiert auf einer motorisierten XYZ-Probenstufe, einer hochauflösenden Kamera und einem automatisierten Fokussierwerkzeug. Die XYZ-Probenstufe wurde entwickelt, um die Maske und den Wafer zur Inspektion genau zu positionieren. Die hochauflösende Kamera wird verwendet, um den Wafer oder die Maske anzuzeigen. Das Auto-Focus-Asset passt den Fokus der Kamera schnell und präzise an die optimale Position an, sodass die Oberfläche des Wafers oder der Maske optimal angezeigt wird. 9010 ist mit einem fortschrittlichen Bildverarbeitungsmodell ausgestattet. Die Bildverarbeitungseinrichtung umfasst eine Reihe von Bildverarbeitungsalgorithmen zur Erkennung von Defekten und Verunreinigungen sowie zur Messung von Partikelgrößen. Die Bildanalyse-Algorithmen wurden darauf abgestimmt, Bereiche potenzieller Kontamination zu identifizieren und Partikel und Defekte genau zu messen. Das System umfasst auch eine Reihe von Software-Tools wie die Bildausrichtungsalgorithmen, Maskenüberprüfungs-/-gleichstellungsalgorithmen und hochauflösende Fehlererkennungsalgorithmen. Alle diese Tools können in Kombination zur automatisierten Analyse und Berichterstattung von Inspektionsergebnissen verwendet werden. Schließlich beinhaltet NANOMETRICS 9010 auch eine benutzerfreundliche grafische Oberfläche, mit der Benutzer die Prüfergebnisse einsehen, analysieren und speichern können. Die Benutzeroberfläche ermöglicht es Benutzern auch, die Parameter und Einstellungen der Inspektionseinheit für benutzerdefinierte Operationen anzupassen. Insgesamt bietet 9010 Mask & Wafer Inspektionsmaschine eine zuverlässige, schnelle, automatisierte und kundenspezifische Lösung für die Masken- und Waferinspektion. Das Werkzeug kann Fehler und Partikel schnell und genau erkennen und messen sowie die daraus resultierenden Daten für eine erhöhte Qualitätskontrolle analysieren. Die benutzerfreundliche Oberfläche, kombiniert mit den automatisierten Werkzeugen, machen das Asset zu einer idealen Wahl für Prozessingenieure, Maskenbauer und Fabs.
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