Gebraucht NANOMETRICS 9010B #293680907 zu verkaufen

NANOMETRICS 9010B ist eine hochpräzise, zerstörungsfreie Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die für die effiziente Inspektion von Mustergenauigkeit und Fehlererkennung höherer Ordnung auf Wafern und Masken entwickelt wurde. Das System ist in der Lage, isolierte oder gemusterte Fehler bis zu 25 nm zu identifizieren und Tausende von Bildern pro Gerät für eine detaillierte Analyse in kritischen Prozessanwendungen wie Photomaskeninspektion, IC-Inspektion, LED-Skalierung, Mikromerkmalsinspektion und kritische Bereichsanalyse zu erfassen. Das Gerät verwendet eine fortschrittliche VSS-Maschine (Variable Spot Size), um die Probenoberfläche zu scannen und bietet gegenüber herkömmlichen Methoden eine überlegene Empfindlichkeit und Genauigkeit. Die Software kann dann verwendet werden, um das Muster auf der inspizierten Probe mit dem Original zu vergleichen, um Unstimmigkeiten oder Unregelmäßigkeiten zu identifizieren. Dies trägt zur Optimierung des Produktionsprozessertrags, zur Kostensenkung und zur Minimierung der Markteinführungszeit bei. Das Werkzeug verfügt über eine hochgenaue Bewegungsstufe, um Mikroskopstabilität und Bildkonsistenz für hochauflösende Bildgebung zu gewährleisten. Die integrierte optische Zoomfunktion bietet Anwendern eine breite Palette von Sichtfeldern, während das erweiterte Autofocus (AF) -Gut selbst auf Substraten mit großen Schritthöhen scharfe Bilder liefert. Neben der Merkmalserkennung unterstützt 9010B die strukturierte Lichtfehlerinspektion zur Erkennung von Mikrofehlern sowie die automatisierte Fehlerklassifizierung aus 8-Bit-Kontrastbildern. Es nutzt auch eine leistungsfähige Bilddatenbank für die Langzeitanalyse von Daten und SPC-Ausgängen für die Prozessanalyse. Darüber hinaus erleichtert die intuitive Benutzeroberfläche die Navigation und Konfiguration des Modells. Die beispiellose Leistungsfähigkeit der Geräte in Kombination mit den umfassenden Analysewerkzeugen machen NANOMETRICS 9010B zu einer idealen Wahl für ein breites Spektrum an Masken- und Waferinspektionsanwendungen. Mit seinen fortschrittlichen Fehlererkennungstechnologien, der hohen Genauigkeitsauflösung und der benutzerfreundlichen Oberfläche bietet das System einen hervorragenden Wert für die Endbenutzer.