Gebraucht NANOMETRICS AFT 210 #9083845 zu verkaufen

NANOMETRICS AFT 210
ID: 9083845
Thickness measurement systems.
NANOMETRICS AFT 210 ist eine fortschrittliche Wafer- und Maskeninspektionsanlage, die zur Erkennung und Messung von Defekten während des Herstellungsprozesses entwickelt wurde. Das System verfügt über einen großen Arbeitsbereich und einen lokalen Steuerrechner, was es zu einer idealen Wahl für die Herstellung von Halbleiterbauelementen macht. AFT 210 ist mit einem erweiterten Mehrpunkt-Tool ausgestattet, das bis zu 8 Maskenstufen gleichzeitig messen kann. Jede Maskenstufe kann für unterschiedliche Prüfparameter angepasst werden. Dies gibt dem Gerät die Möglichkeit, eine Vielzahl von Defekten zu erkennen, die von kleinen Verunreinigungen bis hin zu großen Oberflächenunregelmäßigkeiten reichen. NANOMETRICS AFT 210 verwendet auch eine auf der Ebene optische Maschine, um die Menge an falschen Positiven zu reduzieren. Dieses Tool ist in der Lage, Bilder aus der Maske sowie der Probe Wafer zu analysieren. Darüber hinaus liefert das Asset Echtzeitdaten über den Status des Inspektionsprozesses und erleichtert dem Bediener die Leistungsüberwachung. Um die Datenmenge zu maximieren, umfasst das Inspektionsmodell von AFT 210 eine automatisierte 3D-Bildverarbeitungsausrüstung. Dieses System ermöglicht es, den Inspektionsprozess genauer zu gestalten und bessere Ergebnisse zu erzielen. Darüber hinaus ermöglicht die 3D-Bildgebungseinheit der Maschine, Fehler im äußersten Detail zu erkennen, so dass der Bediener Fehler besser erkennen und messen kann. NANOMETRICS AFT 210 verfügt auch über ein automatisiertes Fehlerüberprüfungswerkzeug. Mit diesem Asset kann der Bediener schnell nach Fehlerbildern aus der Maskeninspektion suchen und diese überprüfen. Das Überprüfungsmodell ist auch in der Lage, Ergebnisse von mehreren Wafern zu vergleichen, wodurch es einfacher ist, Prozessinkonsistenzen, die auftreten können, schnell zu erkennen. Insgesamt ist AFT 210 eine äußerst genaue und robuste Waafer- und Maskenprüfanlage. Es ist in der Lage, sehr detaillierte Inspektion von Masken und Wafern durchzuführen, selbst die kleinsten Fehler zu erkennen. Das System ist auch in der Lage, den Inspektionsprozess in Echtzeit zu verfolgen und eine automatisierte Fehlerüberprüfung durchzuführen. Zusammen macht NANOMETRICS AFT 210 zu einem idealen Werkzeug für die Qualitätskontrolle bei jeder Halbleiterherstellung.
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