Gebraucht NANOMETRICS AFT 4000 #85006 zu verkaufen

NANOMETRICS AFT 4000 ist eine Maske und Wafer Inspektion Ausrüstung entwickelt, um genau und schnell zu bewerten defekte Maske Strukturen und Wafer Defekte, bevor Wafer gefährlichen Chemikalien und Nachbearbeitung aussetzen. Dieses System ermöglicht es Benutzern, schnell eine Maske oder einen Wafer auf Fehler zu überprüfen und Informationen für weitere Untersuchungen zu melden. AFT 4000 bietet beispiellose Leistung und hohe Genauigkeit bei der Erkennung und Messung auch kleinster Dielektrikumfehler. Das Gerät verfügt über eine Quadra-Tech-Bildgebungstechnologie, die eine schnelle und hochauflösende Bildgebungsfähigkeit bietet. Dadurch kann NANOMETRICS AFT 4000 überlegene Bilder von Maskenmustern, Schichten und 3D-Features auf der zu inspizierenden Maske oder dem Wafer erzeugen. Die Maschine ist ferner mit einem einzigartigen Tool zur Koppel-Ätzmerkmalsanalyse ausgestattet, mit dem feine Strukturen in Dielektrika und Strukturen mit nur 2 bis 6 Lambda Abstand zwischen ihnen erkannt werden können. Darüber hinaus bietet das Tool auch erweiterte Analysetools wie die FTIR-Spektroskopie, mit denen Benutzer die Eigenschaften eines Defekts in physikalischen und chemischen Verbindungen genau messen können. AFT 4000 ist auch mit einem optionalen Diagnostic Feature Analysis Tool ausgestattet, mit dem Benutzer den Schweregrad einer Abweichung genau quantifizieren können. Dieses Tool hilft Benutzern dann zu entscheiden, ob der Fehler die Qualität des resultierenden Produkts beeinflusst oder ob es sich um ein falsch positives Produkt handelt, das in der Nachbearbeitung sicher behoben werden kann. NANOMETRICS AFT 4000 ist eine extrem fortschrittliche Masken- und Waferinspektionsanlage, die Anwendern höchste Genauigkeit und Geschwindigkeit bei der Fehlerbewertung bietet. Seine erweiterten Bildgebungs- und Analysefunktionen ermöglichen es Benutzern, selbst kleinste Fehler in Dielektrika leicht zu erkennen und zu messen. Dank seines optionalen Tools zur Analyse von Diagnosefunktionen können Benutzer Fehler vor der Nachbearbeitung genau erkennen und analysieren.