Gebraucht NANOMETRICS / BIO-RAD / ACCENT (Maske & Wafer Inspektion) zu verkaufen

Nanometrie, Bio-Rad und Accent sind führende Hersteller von Masken- und Wafer-Inspektionsgeräten. Diese Systeme sind in der Halbleiterindustrie wesentlich, um Fehler zu identifizieren, die Qualitätskontrolle sicherzustellen und die Produktionsausbeute fortschrittlicher elektronischer Geräte zu verbessern. Nanometrie bietet eine Reihe von Masken- und Wafer-Inspektionseinheiten, einschließlich der RPM 2000, CALIPER Q300 und Q200i. Das RPM 2000 ist ein fortschrittliches Retikel-Inspektionssystem zur Erkennung von Fehlern an Retikeln, die in Lithographieprozessen verwendet werden. Es kombiniert hochauflösende Bildgebung mit ausgeklügelten Algorithmen zur genauen Fehlererkennung. Das CALIPER Q300 ist ein Wafer-Inspektionssystem, das eine umfassende Inspektion von strukturierten Wafern ermöglicht und damit Störungen identifiziert, die für die Geräteleistung von entscheidender Bedeutung sind. Das Q200i ist ein Maskeninspektionssystem, das hochauflösende Bildgebung und Mehrwellenlängenbeleuchtung zur Erkennung von Defekten an Photomasken verwendet. Bio-Rad ist spezialisiert auf konfokale Bildgebungsmaschinen für die biologische Forschung, einschließlich Masken- und Waferinspektionsanwendungen. Ihre Werkzeuge sind mit konfokalen und multiphotonen bildgebenden Funktionen ausgestattet, die eine hochauflösende Inspektion von biologischen Proben, einschließlich Wafern und Masken, ermöglichen. Diese Assets bieten eine verbesserte Empfindlichkeit und Auflösung und ermöglichen eine präzise Fehlererkennung. Accent bietet auf die Halbleiterindustrie zugeschnittene Inspektionsmodelle an. Ihre Produkte enthalten fortschrittliche Bildgebungstechnologien wie Dunkelfeld und Hellfeld-Bildgebung, um eine genaue Fehlererkennung zu ermöglichen. Diese Anlagen gewährleisten eine effektive Qualitätskontrolle und Verbesserung der Ausbeute für Fertigungsprozesse. Die von Nanometrics, Bio-Rad und Accent hergestellten Masken- und Wafer-Inspektionssysteme bieten Analoga hinsichtlich ihrer Fähigkeit, Fehler zu erkennen und den Produktionsertrag zu verbessern. Ihre Vorteile liegen in den modernsten bildgebenden Technologien, die eine hochauflösende Inspektion und genaue Fehlererkennung ermöglichen. Beispiele für diese Einheiten, wie die RPM 2000, CALIPER Q300 und Q200i, stellen die modernsten Fähigkeiten dieser Hersteller im Bereich der Masken- und Waferinspektion dar.