Gebraucht NANOMETRICS Caliper Elan #293625779 zu verkaufen

NANOMETRICS Caliper Elan ist eine fortschrittliche Maske und Wafer Inspektion Ausrüstung. Es wurde entwickelt, um die Lithographie-Prozessleistung anhand verschiedener Produktdesign-Kriterien schnell zu testen und zu überwachen. Das System kombiniert automatisierte Bildgebung, Schnellzugriffsdatenbank, leistungsstarke Bildanalysetools und erweiterte Datenanalysefunktionen. Es wird verwendet, um die Bedruckbarkeit und Oberflächentopologie von Wafern und Masken zu analysieren. Es wurde entwickelt, um Fehler in den Wafern schnell und genau zu erkennen. Das Gerät unterstützt sowohl die Bildgebung mit hohem Kontrast als auch die multispektrale Bildgebung und ist somit ideal für die Überwachung beliebiger Prozessvariablen wie Linienbreite, kritische Abmessungen, Overlay-Fehler und Seitenwandwinkel. Es bietet auch hohe Genauigkeit und Präzision in den Messungen. Die Maschine enthält auch eine leistungsstarke Caliper Software-Plattform, die in verschiedene Infrastrukturen integriert wird. Die Plattform ermöglicht es Benutzern, Aufgaben einzurichten, auszurichten und zu steuern sowie Echtzeitdaten zu visualisieren. Darüber hinaus unterstützt es Einzel- und Mehrfachmusterprüfungen, Unterstützung für manuelle und automatische Überprüfung sowie Kompatibilität mit einer Vielzahl von Bild- und Maskenformaten. Das Tool kann mit Hilfe eines PreScan-Wafer- und Masken-Pre-Scan-Assistenten automatisiert werden, mit dem Benutzer die kritischen Prozessparameter und die für die Inspektion erforderliche Ausrichtung ermitteln können. Das aktivierte Alignment-Asset in Caliper Elan hilft Benutzern, die Maske genau auf den aktiven Bereich des Wafers auszurichten. Das Modell unterstützt auch die Simulation des Druckprozesses, die bei der Erkennung von möglichen Fehlern vor Beginn der Produktion hilft. Das Gerät bietet auch leistungsstarke Reporting-Funktionen, um Berichte in einer Vielzahl von Formaten zu erstellen. Dies hilft Benutzern, die individuelle Prozessleistung zu verfolgen und die Prozessleistung mit früheren Ergebnissen zu vergleichen. Darüber hinaus ermöglicht das System den Anwendern, den Prozess auf globaler und individueller Ebene zu überwachen und zu analysieren. NANOMETRICS Caliper Elan Maske und Wafer Inspektionseinheit ist entworfen, um präzise und genaue Wafer und Maske Testergebnisse zu liefern. Mit seiner automatisierten Bildverarbeitung, multispektralen Bildgebungsfähigkeit, leistungsstarken Reporting-Funktionen und automatisierten Überwachungsfunktionen ist es ein ideales Werkzeug zur Überwachung und Verbesserung der Leistung von Lithographieprozessen.