Gebraucht NANOMETRICS Caliper Mosaic #9281789 zu verkaufen

NANOMETRICS Caliper Mosaic ist eine automatisierte Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die eine umfassende und genaue Analyse der Merkmalsgröße, kritischen Abmessungen, Profil, Form und Oberflächenqualität auf einer Unterkonstruktion bis zu 45 nm ermöglicht. Das System umfasst sowohl Optical Beam Induced Resistance (OBIR) als auch Optical Beam Induced Current (OBIC) Messtechnologien, um sowohl die kritischen Dimensionen (CD) als auch die Gerätetopographie kleiner, komplexer Mikrostrukturen effektiv zu messen. Das Hauptziel der Einheit ist es, schnelle, genaue und zuverlässige Daten über Halbleiterbauelemente bereitzustellen, um die Produktionssteuerung und Kostenreduzierung zu verbessern. Es ist mit einem einzigartigen Drehtisch ausgestattet, der den gesamten Wafer umfasst, der eine Wafer-Kartierung und Deformationsanalyse ermöglicht. Die Maschine arbeitet auf einem hochautomatisierten Scanner mit einem fortschrittlichen optischen Bildgebungstool, das Bilddaten in hoher Auflösung auf Maske und Wafer erfasst. Dies liefert viele Datenpunkte, die bei einer Vielzahl von Lichtverhältnissen analysiert werden können. Die OBIR-Technologie ermöglicht Messungen an Damaszenen, Metallen, Isolierungen und anderen reflektierenden Strukturen. Die OBIC-Technologie wurde entwickelt, um kleine Geometrien zu erkennen, die mit OBIR möglicherweise nicht erkennbar sind. Diese Kombination macht es praktisch unmöglich, Mikrostrukturdefekte zu verpassen. Caliper Mosaic Asset verfügt über eine intuitive Benutzeroberfläche sowie erweiterte Softwarefunktionen zur Fehleranalyse und Datenberichterstattung. Die Benutzeroberfläche ermöglicht es dem Bediener, einen Auftrag einfach direkt aus dem Datenprotokoll einzurichten und Messergebnisse schnell zu überprüfen und zu bestätigen. Die Software bietet die Möglichkeit, über große Layoutrahmen hinweg zu messen, ohne dass punktuell gemessen oder Daten aus Messsoftware exportiert werden müssen. Das Modell verwendet kundenspezifische Optik und Filter, um das zugrunde liegende Halbleitermaterial anzupassen, mit der Fähigkeit, an asymmetrischen Strukturen und versteckten Merkmalen zu arbeiten. Die Geräte können auch verwendet werden, um mehrere Inspektionen gleichzeitig durchzuführen, einschließlich Seitenwand, Graben, NMOS, PMOS und DF-Routing-Ebenen. Unter der intuitiven Benutzeroberfläche und den erweiterten Softwarefunktionen verfügt das NANOMETRICS Caliper Mosaic-System über leistungsstarke Hardware, einschließlich einer erweiterten optischen Bildgebungseinheit mit hohem Dynamikbereich und größerem Sichtfeld sowie Benetzungsmaschine, mehreren Lasern und Hardwareautomatisierung, um den Durchsatz zu maximieren und den manuellen Aufwand zu reduzieren. Insgesamt zeichnet sich Caliper Mosaic als zuverlässiges und umfassendes automatisiertes Masken- und Wafer-Inspektionsinstrument für eine schnelle und genaue Analyse der Funktionsgröße, kritischen Abmessungen, des Profils, der Form und der Oberflächenqualität aus. Das Modell eignet sich für die Fertigung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente, die eine effektive Prozesssteuerung und Kostenreduzierung ermöglichen.