Gebraucht NANOMETRICS Caliper Mosaic #9383063 zu verkaufen

NANOMETRICS Caliper Mosaic ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die Laserscanning in Verbindung mit planarer Bildgebung verwendet, um nanoskalige Bilder von gemusterten und nicht gemusterten Strukturen in Wafern, Masken und verwandten Materialien zu erhalten. Das System bietet drei verschiedene Funktionen: optische Messung, Bildgebung und Maskenmesstechnik. Mit Laserscannen bietet Caliper Mosaic maximale Messgenauigkeit von weniger als 5nm in Wafer-Map-Modi bei 7,5 Mikrometer Auflösung (Nanometer). Das Gerät bietet auch eine dynamische Analyse von Lappfolien mit Präzisionsmessungen im Bereich von plus oder minus 2 Nanometern. Darüber hinaus ist die Maschine mit ihrer automatisierten Reverse Engineering-Software in der Lage, von den optisch abgetasteten, lithographisch strukturierten Oberflächen gesammelte Overlay-Mess- und Registrierungsdaten zu analysieren. Mit seinen bildgebenden Funktionen kann das Tool eine Submikron-Auflösung von Wafer- und Maskenfunktionen bieten. Ein hochauflösendes 5-Megapixel-Objektiv wird verwendet, um Bilder im 15-Mikron-Bereich zu erfassen. Die erfassten Bilder können auch beliebig eingestellt, skaliert, gedreht und positioniert werden. Darüber hinaus bietet das Asset eine integrierte Mustervergleichssoftware, mit der optisch gescannte Funktionen und Elemente mit einer Liste vorbestimmter Vorlagen abgeglichen werden können. NANOMETRICS Caliper Mosaic eignet sich auch für breite Palette von messtechnischen Operationen in der Maskenmusterung, einschließlich Sondenausrichtung, Overlay-Shift-Messungen, CD-Steuerung, komplexe Overlay-Analyse und Komponentenplatzierung. Es verwendet zwei passende NIST-plattierte Substrate, um Overlay-Verschiebung und Fehler zu identifizieren. Die resultierenden Daten werden dann verwendet, um eine Verzerrungsanalyse zur Overlay-Steuerung durchzuführen. Abschließend ist Caliper Mosaic ein hochentwickeltes Modell, das umfassende Masken- und Wafer-Inspektionsmöglichkeiten auf nanoskaliger Auflösungsebene bietet. Es bietet präzise Funktionen zur optischen Messung, Bildgebung und Maskenmesstechnik, die ein tiefes Verständnis der Struktur und des Musters von Materialien zur Herstellung mikroelektronischer Geräte ermöglichen. Die Ausrüstung ist von unschätzbarem Wert für industrielle Anwendungen, die eine enge Messgenauigkeit erfordern, da sie verwendet werden kann, um Zielobjekte mit höchster Genauigkeit genau zu schütteln und zu inspizieren.