Gebraucht NANOMETRICS Caliper Mosaic #9383351 zu verkaufen

NANOMETRICS Caliper Mosaic ist eine Maske & Wafer Inspektion Ausrüstung entwickelt, um Anomalien in Halbleiter Maske Designs und Wafer Herstellungsprozesse zu erkennen. Es liefert schnelle, hochauflösende Fehlererkennung und genaue Messungen für die Fehleranalyse und automatisierte Fehlerüberprüfung. Das System verfügt über eine 16-Bit-digitale Bildverarbeitungseinheit, die Waferbilder bis zu einer Größe von 25 cm aufnehmen kann. Es kann sowohl Weitfeld (lokal) als auch Langfeld (global) -Maskenansichten zur eingehenden Analyse erfassen und speichern. Mit seiner hochauflösenden Fähigkeit kann Caliper Mosaic Anomalien wie Gate-Oxid-Delamination, Kantenfehler und kritische Dimensionsänderungen mit großer Genauigkeit erkennen. Die Maschine wird von einer modernen und intuitiven Software angetrieben, die es Anwendern ermöglicht, Wafer schnell und einfach zu überprüfen. Es enthält auch Funktionen für die automatisierte Inspektion, wie hierarchische Fehlerklassifizierungen, schnelle Ausrichtung mehrerer Bilder und die Möglichkeit, Bildbibliotheken für eine schnelle Auswertung zu speichern. Darüber hinaus bietet das Tool eine Reihe von vorbelasteten Fehlerklassifizierungsschemata, die eine schnelle und einfache Identifizierung potenzieller Probleme innerhalb eines Masken- oder Waferdesigns ermöglichen. Das Asset eignet sich sowohl für Wafer-Level-Anwendungen als auch für Lithographie-Anwendungen mit einer Reihe von Anpassungsoptionen, die den spezifischen Bedürfnissen der Benutzer entsprechen. Es werden eine Reihe leistungsstarker Verarbeitungsfunktionen unterstützt, einschließlich Tools für erweiterte Fehlerüberprüfung und automatisierte 2D/3D-Profilzuordnung. So können Anwender komplexe und subtile Mängel im Design identifizieren und wertvolle Einblicke in den Produktionsprozess gewinnen. NANOMETRICS Caliper Mosaic setzt den Industriestandard für die Masken- und Waferinspektion und bietet Anwendern eine äußerst zuverlässige und einfach zu bedienende Plattform zur Erkennung von Defekten und zur Verbesserung der Effizienz von Produktionsprozessen.