Gebraucht NANOMETRICS Caliper Mosaic #9383362 zu verkaufen

NANOMETRICS Caliper Mosaic ist ein leistungsstarkes und vielseitiges Werkzeug für die Masken- und Waferinspektion. Es nutzt patentierte Algorithmen, um sowohl auf Masken- als auch auf Wafersubstraten effizient und genau auf Defekte zu überprüfen. Caliper Mosaic verfügt über eine erweiterte QuadriChromatic-Bildgebung, die vier Spektralbänder verwendet, um die Masken- oder Wafertopologie digital darzustellen. Das System erfasst bis zu acht Sub-Mikron-Merkmalsauflösung, geeignet für die Inspektion von feinen, komplizierten Eigenschaften. Ein 8-Zoll-hochauflösender 2K x 2K FPA-Sensor bietet eine wählbare, hochauflösende Bildaufnahme. Die Echtzeit-Videoaufnahme mit Hochgeschwindigkeitskameras sorgt für höchste Genauigkeit im Inspektionsprozess. NANOMETRICS Caliper Mosaic bietet präzise und vielseitige Erkennungsfähigkeit. Seine erweiterte MultiObject Inspection (MOI) Funktion warnt den Benutzer automatisch auf genaue Position und Größe aller im Bild gefundenen Fehler. Es kann eine breite Palette von Defekten erkennen, einschließlich Partikel, Gruben, Nadelöcher, Hohlräume, kurze Hosen, Überhänge und mehr. Es bietet auch eine automatisierte doppelseitige optische Flachbandkompensation für eine verbesserte Auswertung und Analyse sowie die Möglichkeit, Bilddaten für eine spätere Überprüfung zu speichern. Das System verfügt außerdem über eine automatische offline abstimmbare Maskeninspektion, die die Hardwareeinstellungen für jedes Etikett optimiert. Caliper Mosaic verfügt über Fernbedienung und Wartung mit geringen Auswirkungen, was es zu einer idealen Wahl für die Inspektion empfindlicher Masken und Wafersubstrate macht. Es ist auch mit einer breiten Palette von Software kompatibel und ermöglicht eine einfache Integration in bestehende Fertigungspipelines. NANOMETRICS Caliper Mosaic ist mit seiner fortschrittlichen Bildgebungstechnologie, präzisen Fehlererkennungsfunktionen und benutzerkonfigurierbaren Hardwareeinstellungen ein unschätzbares Werkzeug zur Inspektion von Masken- und Wafersubstraten.