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NANOMETRICS Caliper Mosaic
ID: 9390470
Overlay control systems.
NANOMETRICS Caliper Mosaic ist eine Maske & Wafer Inspektion Ausrüstung entwickelt, um Masken und Wafer auf Nanometerebene zu analysieren. Sie eignet sich insbesondere zur Untersuchung von Mustern und Merkmalen hoher Dichte, die für herkömmliche optische Inspektionssysteme typischerweise zu klein sind. Das optimierte optische Design nutzt hochpräzise Abbildungsoptiken sowie fortschrittliche Datenerfassungstechniken, um ein umfassendes, automatisiertes Wafer-Inspektionssystem zu schaffen. Caliper Mosaic Einheit bietet zuverlässige und genaue quantitative Analyse von Wafermustern bis zu einer Auflösung von 10 nm. Die Maschine besteht aus Abbildungsoptiken, einer CCD-Kamera und einer Hochleistungs-Rechenplattform. Seine fortschrittliche Abbildungsoptik wurde speziell entwickelt, um die Bildklarheit kleiner Geometrien zu verbessern und gleichzeitig die Wirkung von Streulicht auf die Abbildungsergebnisse zu minimieren. Das Werkzeug ist auch in der Lage, eine breite Palette von Substraten zu inspizieren, einschließlich Chrommasken, UV-Masken, Retikel und undurchsichtige Wafer. Der Vermögenswert zeigt mehrere fortgeschrittene Technologien wie ein Hochleistungsbildanschaffungsmodell, das Verzerrung und innovativen Laser minimiert Techniken kartografisch darzustellen, die an vielfachen Wellenlängen funktionieren, um beispiellose Schaugenauigkeit zu erreichen. Fortgeschrittene Datenanalysetechniken wie Mustererkennung und Unschärfenanalyse verbessern die Qualität des Inspektionsprozesses weiter. Das Gerät kann auch verwendet werden, um zwei Bilder zu vergleichen, so dass kleinere Musterunterschiede erkannt werden können. Die benutzerfreundliche Systemoberfläche ermöglicht eine intuitive Kontrolle des Waferinspektionsprozesses mit einer Vielzahl von Visualisierungsmöglichkeiten. Grafische Anzeigen zeigen die Ergebnisse der Inspektion, und die gleiche Software kann verwendet werden, um Muster zu überprüfen, erkannte Fehler zu analysieren und detaillierte Berichte zu erstellen. NANOMETRICS Caliper Mosaik-Einheit kann automatisch verschiedene Parameter optimieren, wie Fokus, Würfellinien, und die Schwellen für die Mustererkennung. Caliper Mosaic wurde entwickelt, um eine umfassende Lösung für die Wafer- und Maskeninspektion zu bieten. Mit seiner hochauflösenden Bildgebung und der detaillierten Fehlererkennung sorgt diese robuste Inspektionsmaschine für Genauigkeit, Wiederholbarkeit und Durchsatz.
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