Gebraucht NANOMETRICS Caliper Ultra #9244841 zu verkaufen

NANOMETRICS Caliper Ultra ist eine Maske und Wafer Inspektion Ausrüstung entwickelt, um die Genauigkeit und Präzision der Chip-Entwicklung zu verbessern. Mit fortschrittlicher Wafer-Bildgebung liefert Caliper Ultra schnelle, zuverlässige und kostengünstige Ergebnisse. Das System unterstützt eine Vielzahl von Wafergrößen von 1 Zoll bis 12 Zoll und verwendet eine Hochleistungsvergrößerung von bis zu 200x, kombiniert mit hochauflösender Optik, um genaue Bilder der geprüften Funktionen zu liefern. Die bildgebenden Funktionen des Geräts werden durch erweiterte Funktionen wie Dünnwaferausrichtung, erweitertes Sichtfeld, Multireferenzierung und Autofokus weiter verbessert. Die Software-Suite der Maschine wurde entwickelt, um die Ausrichtung von Mustern, Wafern und Fehleranalysen sowie die Bildverarbeitung und -berichterstattung zu unterstützen. Es ist intuitiv, einfach zu bedienen und effizient. Es automatisiert eine Reihe von Analyseaufgaben, einschließlich Autofokus, XY-Ausrichtungen und Fehleranalysen. Automatisierte Messungen ausgewählter Wafer- oder Düsenfehler sowie Messungen kritischer Merkmale, die mit herkömmlichen Mikroskopen nicht zugänglich sind, können durchgeführt werden. NANOMETRICS Caliper Ultra ist für die räumliche Isolierung und Abbildung mehrerer Arten von Defekten konzipiert. Es verfügt über fortschrittliche Algorithmen zur Erkennung, Analyse und Klassifizierung von Fehlern und liefert schnelle, wiederholbare Ergebnisse. Das Werkzeug ist auch entworfen, um genaue Fehlerisolierung und Ort für eine schnelle Charakterisierung zu liefern. Zusätzlich zu seinen erweiterten Funktionen ist das Asset einfach zu bedienen und kostengünstig. Es enthält integrierte Tools, mit denen die Ausrichtung optimiert, Analyseparameter eingerichtet und Ergebnisse analysiert werden können. Die grafische Benutzeroberfläche (GUI) ist intuitiv und automatisierte Wafer-Identifikations- und Fehlerbewertungsfunktionen ermöglichen eine schnelle und schnelle Bedienung. Caliper Ultra bietet eine hocheffiziente und wiederholbare Masken- und Wafer-Inspektionslösung. Seine automatisierten Wafer-Handhabungsfunktionen und bildgebenden Algorithmen bieten eine schnelle und genaue Bildbewertung und seine Erfassungs-, Analyse- und Berichtsfunktionen ermöglichen effiziente und zuverlässige Fehlerplatzierungsergebnisse. Das Modell ist kostengünstig, benutzerfreundlich und bietet unübertroffene Bildqualität, Auflösung und Genauigkeit.