Gebraucht NANOMETRICS CD-50-2 #9123936 zu verkaufen

ID: 9123936
Weinlese: 1999
CD control systems Measurement : (1) Nanometrics microscope with trinocular head Isolation stand Eyepieces: WHK 10X/20L Objectives: Ms plan 5X/0.13 Ms plan 20X/0.46 ULWD Ms plan 50X/0.55 X-Y-Z stage Computers (7) video camera Computer controlled scanning photometric microscope instrument Designed for measuring line widths Gaps and registration alignment Effective measuring range: 0.5 to 125.0 microns Stage X-Y movement: 4" x 4" Scan time of less than 5 secs Voltage: 115V Power: 50/60 Hz 1999 vintage.
NANOMETRICS CD-50-2 ist ein hochwertiges Masken- und Wafer-Inspektionssystem für Masken- und Waferhersteller. Es wurde entwickelt, um Masken- und Wafer-Herstellern ein Maß an Präzision und Genauigkeit zu bieten, das in der Branche konkurrenzlos ist. Mit seiner präzisen Optik, fortschrittlichen Bildverarbeitung und nanoskaligen Genauigkeit ist CD-50-2 in der Lage, Hersteller von Masken und Wafern mit beispiellosen Qualitätskontrollen zu versorgen. NANOMETRICS CD-50-2 verwendet ein Array von fünf Lasermodulen, die Licht unterschiedlicher Wellenlängen emittieren. Diese Laser werden mit einem einzigartigen Optiksystem kombiniert, das zur Erkennung von Masken- und Waferdefekten im Nanometermaßstab ausgelegt ist. CD-50-2 ist in der Lage, mikroskopische Defekte von einzelnen Masken- und Wafermerkmalen bis hin zu Atomen genau zu messen und Suboberflächendefekte zu sehen. NANOMETRICS CD-50-2 verfügt auch über einen leistungsfähigen Bildverarbeitungsalgorithmus, der es ermöglicht, selbst die schwierigsten Fehler zu erkennen. Dieser leistungsstarke Algorithmus ist in der Lage, die Orte und Größen aller Defekte genau zu bestimmen, ob sie sich in der Maske oder in Wafermaterialien befinden. Neben seiner hochpräzisen Optik und Bildverarbeitungsfähigkeit verfügt CD-50-2 auch über eine umfassende Datenbank mit Masken- und Wafermaterialien und Spezifikationen. Auf diese Weise können NANOMETRICS CD-50-2 die Eigenschaften einer beliebigen Maske oder eines Wafers genau bestimmen und detaillierte Berichte über die Ergebnisse erstellen. CD-50-2 ist eine leistungsstarke Ergänzung zum Masken- und Wafer-Inspektionsfeld. Seine hochpräzise Optik und Bildverarbeitungsfunktionen ermöglichen es ihm, auch kleinste Fehler zu erkennen, und seine umfassende Datenbank mit Masken- und Wafermaterialien ermöglicht es ihm, Eigenschaften genau zu bestimmen und detaillierte Berichte über die Ergebnisse zu erstellen. NANOMETRICS CD-50-2 ist sehr kostengünstig und eine ideale Wahl für den Masken- und Wafer-Hersteller, der nach höchster Produktqualität sucht.
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