Gebraucht NANOMETRICS M-215 #9226304 zu verkaufen

NANOMETRICS M-215 ist eine hochwertige Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die von NANOMETRICS Incorporated entwickelt und hergestellt wurde. Es bietet eine einzigartige Kombination aus Bildgebung, Messtechnik und Prozessüberwachung für Halbleitermaskenhersteller und Hersteller von integrierten Schaltungen (IC). M-215 System verwendet die neueste handgeführte Atomkraftmikroskoptechnologie, die in der Lage ist, zweidimensionale Oberflächen mit Nanometerauflösung und Genauigkeit zu scannen. Es ist mit speziellen Inspektionsmöglichkeiten für Masken, Wafer und zugehörige Materialien wie Photoresist, Polymere, dünne Filme, Bleirahmen und andere Prozessreste ausgelegt. NANOMETRICS M-215 integriert Nanometers patentierten „Planar Image Processing“ (PIP) -Algorithmus, der es ermöglicht, kritische topographische Merkmale an platzierten Mustern und Defekten genau zu messen. Mit PIP können Techniker das Bild auch aus mehreren Perspektiven betrachten und so Problembereiche besser isolieren. Das Gerät verfügt über mehrere Annehmlichkeiten, wie eine intuitive grafische Benutzeroberfläche (GUI). Die GUI bietet die Fähigkeit, verschiedene Aufgaben an einer bestimmten Maske oder einem Wafer auszuführen, wie Mustererkennung, Fehlererkennung und genaue Dimensionierung und Charakterisierung. Dies macht M-215 ideal für die Fehlerinspektion und Prozessoptimierung. Neben PIP bietet NANOMETRICS M-215 erweiterte algorithmenbasierte automatisierte Bildwiederherstellungsfunktionen zur Auswertung von Materialien mit ungleichmäßigen Oberflächen oder Geweben. Es ist auch in der Lage, Flop-Winkel zu identifizieren und gewünschte Parameter wie Linienbreite, Steigung, Formfaktor, Prozesselemente, Topologie und Defekte genau zu messen. Darüber hinaus ist die Maschine mit prozessspezifischen Analysefähigkeiten ausgestattet, die verschiedene Halbleiterprozessschritte simulieren, um die Kompatibilität zu überprüfen und ihre Leistung zu optimieren. Kurz gesagt, stellt M-215 ein ausgeklügeltes Werkzeug für jeden Hersteller oder Forscher dar, der an der Inspektion von Masken und Wafern auf hohem Niveau beteiligt ist. Mit seiner Kombination aus innovativen Bildgebungs- und Messtechnikmerkmalen, ausgeklügelten Algorithmen und zuverlässiger automatisierter Bildwiederherstellung bietet das Tool überlegene Leistung und Genauigkeit bei der Inspektion und Charakterisierung von Materialien.