Gebraucht NANOMETRICS M6100A #9243269 zu verkaufen

NANOMETRICS M6100A Mask & Wafer Inspection Equipment ist ein multitalentes, leistungsstarkes, präzises Inspektionswerkzeug, das den stetig steigenden Anforderungen der Wafer- und Maskeninspektionsindustrie gerecht wird. M6100A System verwendet eine hochauflösende Laserabbildungseinheit zur Inspektion von Wafer- und Maskenmustern, die eine Auflösung auf Mikroniveau ermöglicht. Die Maschine ist in der Lage, extrem kleine Mängel wie kaputte Drähte und fehlende Kontakte kostengünstig zu erkennen. NANOMETRICS M6100A-Tool verfügt über eine Vielzahl von verfügbaren Optionen und Funktionen, einschließlich optischer Zoom und verbesserte Grafikfunktionen. Dieses Asset wurde entwickelt, um den Anforderungen einer Vielzahl von Anwendungen der Masken- und Wafertechnologie gerecht zu werden, sodass der Benutzer schnell und präzise die höchstmögliche Bildqualität erhalten kann. Das Modell ist in der Lage, mit einer Vielzahl von Materialien zu arbeiten, einschließlich transparenter und undurchsichtiger Schichten, und unterstützt sowohl direkte als auch indirekte Inspektion. Mit M6100A sind zwei 4-Megapixel-Kameras hinter einem großen, niederprofiligen, leichten Edelstahlrahmen montiert, um einen reibungslosen Betrieb und maximale Ausstattungsgenauigkeit zu gewährleisten. Eine LED-Hintergrundbeleuchtung verbessert den Bildkontrast für mehr Ergebnisse und Zuverlässigkeit, während das optische Zoomobjektiv mit langer Lebensdauer vergrößerte Ansichten extrem kleiner Details ermöglicht. Darüber hinaus verfügt NANOMETRICS M6100A über eine Vielzahl fortschrittlicher Offline-Funktionen wie Fehlerinspektion und dreidimensionale (3D) Bilderzeugung. Dadurch können Maskenmuster überprüft und Fehler schnell und einfach erkannt werden. Das Gerät ist auch in der Lage, Daten aus mehreren Quellen zu interpolieren, wodurch es einfacher ist, schwer erkennbare Fehler zu erkennen und zu lokalisieren. Darüber hinaus bietet M6100A Maschine eine automatisierte Fehlererkennung mittels intelligenter Mustererkennungsalgorithmen sowie manuelle Parametereingabe bei Bedarf. Die automatisierte Fehlererkennung gewährleistet eine konsistente Leistung bei der Maskenmusterprüfung, während die manuelle Parametereingabe es Benutzern ermöglicht, die Suchkriterien anzupassen, um subtilere Fehler zu identifizieren. Dieses Tool ist auch in eine Vielzahl von Software- und CAD-Systemen integriert, so dass der Benutzer direkt auf Daten aus Quelldateien zugreifen und Inspektionsprozesse rationalisieren kann. NANOMETRICS M6100A Mask & Wafer Inspection Asset ist ein fortschrittliches, hochauflösendes Inspektionswerkzeug, das Fehler an Masken und Wafern finden kann, die andere Inspektionssysteme vermissen würden. Es bietet dem Benutzer ein kosteneffizientes Mittel, um qualitativ hochwertige Ergebnisse zu erzielen und gleichzeitig eine Vielzahl von Funktionen und Funktionen bereitzustellen, wodurch es die ideale Wahl für die Inspektion und Überprüfung von Masken- und Wafermustern ist.