Gebraucht NANOMETRICS M6100UV #9239646 zu verkaufen

NANOMETRICS M6100UV ist eine hochpräzise Masken- und Wafer-Inspektionsanlage. Es kombiniert fortschrittliche Bildgebungsoptiken und leistungsstarke Signalverarbeitung, um Masken und Wafer schnell auf Fehler zu analysieren, mit einer automatisierten Auftragsausführungssequenz, die durch benutzerfreundliche Software und umfassende Datenbanktools gesteuert wird. Die optische Optik, Bewegungssteuerungssysteme und Algorithmen des Systems bieten eine überlegene Detektionsfähigkeit und machen M6100UV zu einer idealen Lösung für verschiedene Inspektionsanwendungen. NANOMETRICS M6100UV basiert auf roter und grüner LED mit Vollfeldbeleuchtung und ist mit einem Infrarotkanal zur Fehlerindizierung ausgestattet. Die Kamera erhält ein Bild von der Probenoberfläche mit einer Auflösung von 4k und bietet ein maximales Betrachtungsfeld von bis zu 180 mm. Es ermöglicht dem Muster, sich mit adaptiver Geschwindigkeit und Auflösung zu bewegen, was eine schnelle Verarbeitung und genaue Scan-Ausrichtung ermöglicht. Die Punkt-zu-Punkt-Spiegelausrichtung ermöglicht es dem Gerät, nanoskalige Defekte über den gesamten Scanbereich genau zu erkennen. Die Maschine führt eine Vielzahl von Inspektionsprozessen durch, darunter automatisierte Oberflächeninspektion, Bildaufzeichnung, automatisierte Erfassung und Indexierung, Fehlerklassifizierung und dynamische Maskenprüfung. Es ermöglicht dem Anwender, eine Vielzahl spezialisierter Fehleranalysetechniken zu implementieren, die leistungsfähiger sind als herkömmliche Ansätze. Darüber hinaus unterstützt M6100UV eine Vielzahl von Maskentypen, darunter Masken mit mehreren Gerätegrößen, polychromatische Masken, binäre und graue Masken und gemusterte Wafer. Dieses Inspektionstool verfügt über erweiterte Signalverarbeitung und automatisierte Maskenprüfungsalgorithmen für eine vollständige Fehleranalyse. Angetrieben durch proprietäre Code-Scan-Technologie, ist es in der Lage, zu erkennen, zu vergleichen und zu klassifizieren Minutenfehler mit hoher Genauigkeit. NANOMETRICS M6100UV ist mit einer erweiterten Benutzeroberfläche ausgestattet, die es dem Benutzer ermöglicht, Aufträge einfach zu konfigurieren und zu überwachen sowie auf umfassende visuelle Berichte mit Genauigkeitsindikatoren zuzugreifen. Abschließend ist M6100UV eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektion, die schnelle und genaue Bilder mit maximalem Betrachtungsfeld bietet. Es ist mit einer Reihe von Besonderheiten und Algorithmen ausgestattet, so dass der Benutzer umfassende Fehleranalysen mit großer Genauigkeit durchführen kann. Das Modell ist für verschiedene Inspektionsanwendungen geeignet und bietet eine vollständige und zuverlässige Lösung für die Erkennung, den Vergleich und die Klassifizierung von Fehlern.