Gebraucht NANOMETRICS Nano 215S #9226644 zu verkaufen

NANOMETRICS Nano 215S ist ein Hochleistungs-Masken- und Wafer-Inspektionsgerät, das dreidimensionale (3D) -Bildgebungstechnologie verwendet. Es ist für die Herstellung von Halbleiter-IC-Bauelementen konzipiert und verfügt über mehrere Sample-View-Kameras und eine leistungsstarke LED-Lichtquelle, die eine präzise Hochgeschwindigkeits-3D-Abbildung des Defekts und der Charakterisierung ermöglicht. Nano 215S enthält auch ein Hochgeschwindigkeits-externe Vision-System, das in der Lage ist, große Fehlergrößen zu erfassen und zu analysieren. Diese Masken- und Wafer-Inspektionstechnik ist sehr zuverlässig und bietet eine detaillierte dreidimensionale Abbildung von Defekten mit 1 Meter Auflösung. Dies ermöglicht eine höhere Genauigkeit und Wiederholbarkeit bei der Inspektion von Masken- und Waferdefekten. Die integrierte Defektvalidierungs- und Pre-Analysis-Software verbessert die Zeit bis zur Einsicht, während die intuitive Benutzeroberfläche den Workflow verbessert. Neben der präzisen 3D-Bildgebung verfügt NANOMETRICS Nano 215S auch über eine Wide Field of View (FOV) Kamera, die eine größere Abdeckungsfläche ermöglicht, um Fehler größer als 1 Millimeter zu beobachten und schnell zu erkennen. Nano 215S verfügt auch über eine Mehrfachwellenlängen-Detektionseinheit, die die Abtastgeschwindigkeit und Genauigkeit erhöht. Weitere Merkmale sind eine asynchrone Beobachtungsmaschine, mit der mehrere Datenströme gleichzeitig erfasst werden können, zusammen mit einem Autofokus-Tool, das einen adaptiven Fokus auf verschiedene Informationen bietet. NANOMETRICS Nano 215S bietet sowohl Wafer als auch Maske CD-SEM Leistung. Es ist in der Lage, die Größe verschiedener Defekte an verschiedenen Materialien zu charakterisieren und zu messen. Es bietet Echtzeit-Analyse und Detektion dieser verschiedenen Defekte, mit sowohl optischen als auch Rasterelektronenmikroskopie (SEM) Strategien, die für on-the-fly Analyse verwendet werden. Nano 215S verfügt über automatisierte Waferbetriebswerkzeuge und automatische Probenahmefunktionen, die eine einheitliche Wafer-Probenahme und -verarbeitung ermöglichen. Das Asset kann an die anwendungsspezifischen Anwendungen angepasst werden und kann mit Drittanbieter-Computern für einen verbundenen Workflow verbunden werden. Die Hochgeschwindigkeits-Bildgebung ermöglicht einen erhöhten Durchsatz für eine schnellere Ausführung von Scan- und Analyseaufgaben. NANOMETRICS Nano 215S ist ein kostengünstiges und leistungsstarkes Masken- und Wafer-Inspektionsmodell, das eine schnellere Fehlererkennung und -charakterisierung mit höherer Präzision ermöglicht. Seine leistungsstarken 3D-Bildgebungsfunktionen in Kombination mit einer breiten FOV-Kamera und mehreren Wellenlängenerkennungsgeräten verbessern die Genauigkeit und Wiederholbarkeit defekter Analysen, so dass Benutzer Probleme schnell genau und effizient ermitteln und reparieren können.