Gebraucht NANOMETRICS Nano 215S #9250105 zu verkaufen
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NANOMETRICS Nano 215S ist eine hochentwickelte Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die eine genaue und zuverlässige hochauflösende Bildgebung ermöglicht. Durch überlegene Bildqualität, anspruchsvolle automatisierte Inspektion und intuitive Bedienoberfläche trägt dieses System zur Steigerung der Ausbeute und zur Verringerung von Defekten für eine Vielzahl von Halbleiterbauelementanwendungen bei. Im Allgemeinen arbeitet diese Masken- und Wafer-Inspektionseinheit, indem sie ein digitales Bild der Probe erfasst und dann eine automatisierte Inspektion durchführt, um Muster oder Anomalien im Bild zu identifizieren. Sein modulares Design bietet eine Plattform für eine Reihe von Bildgebungs- und Inspektionsmöglichkeiten, einschließlich Hellfeldmikroskopie, Dunkelfeldmikroskopie, Lasermikrometrie, SEM, Infrarot und mehr. Es umfasst auch eine Vielzahl von Techniken, wie KI-basierte Musteranpassung, Bildvergleich, Signal-Rausch-Analyse und Fehlerkategorisierung. Das Hauptmerkmal von Nano 215S sind die fortschrittlichen Sensoren, die bildgebende Optik und die Software. Die Auflösung beträgt bis zu 0,4 µm - eine der höchsten der Branche. Die Sensoren, einschließlich CCD und sCMOS, können bis zu 5 Megapixel-Bilder mit hohem Dynamikbereich und Empfindlichkeit aufnehmen. Die Optik und das Mikroskop bieten Videobilder vom Hellfeld- und Dunkelfeldmodus bis zur 3D-Bildgebung mit Lasermikrometrie. Die Software der Maschine ist sowohl optisch intuitiv als auch benutzerfreundlich. Es bietet eine breite Palette von automatisierten Inspektionsmerkmalen, die helfen, Ausrichtungsmuster, Defekte, Maßabweichungen, Materialschwankungen und mehr zu identifizieren. KI-basierte Algorithmen ermöglichen die Fehlerkategorisierung und -berichterstattung sowie die komplexe Mustererkennung von kundenspezifischem Know-how und Funktionen. Die benutzerfreundliche GUI hilft Anwendern, Inspektionen für verschiedene Operationen schnell und einfach zu konfigurieren. Insgesamt ist NANOMETRICS Nano 215S ein hochentwickeltes Masken- und Wafer-Inspektionswerkzeug, das eine hervorragende Bildqualität, eine anspruchsvolle automatisierte Inspektion und eine intuitive Benutzeroberfläche bietet. Sein modularer Aufbau und seine erweiterten Bildgebungs- und Inspektionsmöglichkeiten tragen zur Steigerung der Ausbeute und zur Verringerung von Defekten bei und erhöhen den Wert des Prüfprozesses für Halbleiterbauelemente.
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