Gebraucht NANOMETRICS NANOLINE 50-2/50-2C #9101475 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoLine 50-2 und 50-2C sind hochleistungsfähige automatisierte Masken- und Wafer-Inspektionssysteme. Sie sind für 200mm Wafer mit bis zu 2000 mm × 2000 mm Array-Größe ausgelegt. Das Gerät kann den Wafer mit einer hochauflösenden CCD-Kamera auf Musterfehler, Partikelverunreinigungen und Fotoresistmaterial überprüfen. Das System ist in der Lage, vollständige Vollchip-Bilder in kurzer Zeit zu produzieren. Die Bilder werden durch diffusionsbegrenzte parfokale Objektive oder ein proprietäres Weitschrittmuster erzeugt und auf einer hochauflösenden großformatigen ladungsgekoppelten Gerätekamera (CCD) und Laserlinienprojektionseinheit bereitgestellt. Die Maschine bietet auch einen fortschrittlichen StereoDetection-Algorithmus, der kleine Details, aggressive Defekte und übergreifende Defekte in den anspruchsvollsten messtechnischen Herausforderungen erkennen kann. Die NanoLine 50-2 und 50-2C verfügen über ein integriertes Bildverarbeitungswerkzeug, das in der Lage ist, feine Musterdetails aus dem Wafer zu extrahieren sowie automatisierte Fehlerklassifizierungs- und Ausgabeberichte bereitzustellen. Das Asset kann sowohl Nahinfrarot (NIR) als auch optische Bildgebung anzeigen. Darüber hinaus kann es auch mit einer 3D-Fähigkeit konfiguriert werden, die die Inspektion von topographiearmen Bereichen ermöglicht. Die NanoLine 50-2/50-2C wurde entwickelt, um eine hohe Wiederholgenauigkeit und Langzeitgenauigkeit zu gewährleisten. Es verwendet ein schnelles Neupositionierungsmodell mit einem inkrementellen Beschleunigungsmesser und einer dynamischen Balance-Ausrüstung, um eine genaue Bildausrichtung im Laufe der Zeit zu gewährleisten. Die Maschine kann mit drei Walzen unabhängige Achsen arbeiten, Scannen bei bis zu 2000 mm × 2000 mm/sec. Die Komponenten des Systems sind aus starren, nicht biegbaren und leicht wartbaren Materialien aufgebaut, um Bilder und Leistung von höchster Qualität zu gewährleisten. Die Einheit wird auch durch einen proprietären NANOMETRICS-Algorithmus kalibriert, der Variationen in Kamerasensor, Objektiv und Beleuchtung kompensieren kann. Die Maschine wird über eine leistungsstarke, einfach zu bedienende grafische Benutzeroberfläche (GUI) gesteuert. Die GUI ist vollständig anpassbar und verfügt über Funktionen wie erweiterte Werkzeugautomatisierung und Berichtsfunktionen. Es ist auch mit der am häufigsten verwendeten EDA- oder CAD-Software kompatibel, was die Integration in den Prozessablauf erleichtert. NANOMETRICS NanoLine 50-2 und 50-2C wurden entwickelt, um die qualitativ hochwertigsten Ergebnisse für messtechnische Anwendungen zu gewährleisten. Hochauflösende Bilder, genaue Fehlererkennung und wiederholbare Leistung machen sie zur idealen Wahl für Anwendungen wie Halbleiterdefektdetektion, optische Lithographie und Photovoltaik-Panel-Inspektion. Die erweiterten Funktionen und die intuitive Benutzeroberfläche des Tools machen sie perfekt für Serien- und Forschungsumgebungen.