Gebraucht NANOMETRICS NANOLINE 50-2 #9193170 zu verkaufen
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ID: 9193170
Critical dimension measurement system
Head assy:
Drive assy
Quantizer PCB
Realign head optics
IPA Tube
Computer assy:
Main power supply
RAM / ROM PCB
Microscope assembly:
Stage assembly: 6"
Focusblock assembly
Objective lens:
5x
10x
50x
Includes:
Cables
Manual.
NANOMETRIE NANOLIN 50-2 ist eine automatisierte, hohe Geschwindigkeit, Maske & Wafer Inspektion Ausrüstung entwickelt, um eine Vielzahl von kritischen Defekten mit sehr hoher Genauigkeit zu erkennen und zu analysieren. Das System verwendet eine Wafer-Tragstufe mit Direktantrieb und hochauflösenden berührungslosen Linearcodierern für eine ultrapräzise Bewegung und Ausrichtung des Wafers innerhalb der Bühne. Die Präzision der Bühne wird durch eine motorisierte Theta-Stufe zur genauen Positionierung des Wafers weiter verbessert. Zusätzlich ermöglicht ein Objektiv mit variabler numerischer Apertur der Einheit eine hochauflösende Abbildung für kleine Tonhöhenmuster. Die Maschine ist in der Lage, jeden Quadranten des Wafers vollständig zu überprüfen sowie die automatische Kalibrierung mit Standard-Kalibrierungsschlitten oder Keilen. Neben der Kalibrierung bietet NANOLINE 50-2 umfassende Maß- und Ausrichtungsmerkmale, um genaue Messungen zu gewährleisten. Zur Fehleranalyse und -charakterisierung verfügt das Tool über eine erweiterte Methodeneditor-Software, die viele Arten von bildgebenden Analysetechniken wie Hellfeld, Dunkelfeld, Phasenbildgebung, APS, CWF und Coloumns unterstützt. Für die Fehlererkennung werden Schwellen- und Pixelmessungen bereitgestellt, und das Asset verfügt über Zeilenmusteranpassungsfunktionen, da die Muster in einer Datenbank gespeichert werden. Zusätzlich ist ein Multiregion-Histogramm-basiertes Instrument enthalten, das Musterabweichungen erfassen kann, die unterhalb der Mikroskopauflösung liegen. Um weitere Fehlerinspektionen zu unterstützen, verfügt das Modell über eine eingebaute LED-Beleuchtungseinrichtung, die variable Beleuchtungsstufen bereitstellen kann, sodass Benutzer einen höheren Kontrast erzielen können. Eine Vielzahl von Fehlertypen wie Druckfehler, Ätzfehler und Partikelfehler können erkannt werden. Das System verfügt außerdem über einen eingebetteten Hochleistungs-PC und ein großes 21-Zoll-Touchscreen-Display für eine einfache Bedienung der Schnittstelle. Darüber hinaus bietet der PC Netzwerkverbindungen zu externen Datenbanken und Geräten und bietet eine ausgeklügelte Datenanalyse und Workflow-Kontrolle. Zusammenfassend ist NANOMETRICS NANOLINE 50-2 Mask & Wafer Inspection Unit eine automatisierte und leistungsstarke Maschine, die eine zuverlässige Erkennung und Analyse einer Vielzahl von Defekten auf Wafern ermöglicht. Das Werkzeug ist sehr genau und bietet eine Vielzahl von Funktionen für die Kalibrierung, Fehlererkennung und Charakterisierung. Der integrierte PC und das große Touchscreen-Display machen es ideal für die einfache Bedienung des Benutzers, und die gestreichelte LED-Beleuchtung und kippbare Objektive ermöglichen eine detaillierte Analyse von Defekten mit einer Vielzahl von bildgebenden Techniken.
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