Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec 210 XP/UV #9105590 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec 210 XP/UV ist ein Masken- und Wafer-Inspektionsgerät, das automatische Ausrichtung mit hochauflösender Bildgebung und benutzerfreundlicher Software kombiniert, die es schnell und einfach zu bedienen macht. Das System wurde für den Einsatz in einer Vielzahl von Wafer- und Maskeninspektionsanwendungen entwickelt und bietet eine hervorragende optische Leistung und Flexibilität für eine Vielzahl von Analyseanforderungen. Das Gerät verfügt über ein großes, hochauflösendes optisches Mikroskop zur Inspektion von Wafern, Masken und Chips. Das Mikroskop hat eine FOV von 75 mm und eine einstellbare Vergrößerung bis 200x. Die Optik wurde entwickelt, um eine ausgezeichnete Bildklarheit bei geringen Aberrationen zu erzielen, was die Messgenauigkeit verbessert. Das Mikroskop verfügt zudem über einen 5-Megapixel-CMOS-Bildgebungssensor mit 14-Bit-Dynamikbereich und ausgezeichneter Farbempfindlichkeit. NANOMETRICS NanoSpec 210 XP/UV bietet auch eine fortschrittliche Scanmaschine für die schnellste und genaueste Bildgebung. Das Tool verfügt über ein Hochgeschwindigkeits-Scangerät mit einem Indexer, der für eine präzise und gleichzeitige Bewegung auf allen drei Achsen (X, Y und Z) ausgelegt ist. Der Indexermotor ist für eine schnelle Bewegung mit minimaler Vibration ausgelegt: Er kann sich bis zu 40 mm in nur 40 ms bewegen und bietet eine Abtastgeschwindigkeit von über 200mm/s. Die NanoSpec 210 XP/UV enthält auch ein automatisches Ausrichtungsmodell, um sicherzustellen, dass der Wafer oder die Maske genau positioniert und auf das entsprechende Muster auf dem Monitor ausgerichtet ist. Dies gewährleistet eine gleichbleibende Leistung, auch wenn mehrere Bilder in verschiedenen Winkeln und Positionen aufgenommen werden. Das Gerät verfügt außerdem über eine Datenerfassungsfähigkeit, die es dem Benutzer ermöglicht, Bilder und detaillierte Messungen zur weiteren Analyse und Berichterstattung auf seinem Computer zu speichern. Damit der Benutzer die Konstruktionsmuster auf einem Wafer oder einer Maske schnell und präzise messen kann, umfasst das System eine integrierte OPM-Einheit (Optical Proximity Measurement) zur Präzisionsanalyse. Die OPM-Maschine kann bis zu 100 Merkmale mit genauer Positionierung und Größenbestimmung messen. Das OPM-Tool enthält auch einen erweiterten Mustererkennungsalgorithmus für optimale Leistung. Schließlich macht es die benutzerfreundliche Software-Oberfläche einfach, das Asset zu steuern und komplexe Operationen durchzuführen. Die Software enthält einen umfassenden Satz von Einstellungen und Optionen, um die Analyse anzupassen, so dass der Benutzer Entwurfsmuster, Defekte und mehr schnell und genau messen kann. Insgesamt ist NANOMETRICS NanoSpec 210 XP/UV ein fortschrittliches Masken- und Wafer-Inspektionsmodell. Mit seiner hochauflösenden Bildgebung, der schnellen Scanstufe und der genauen Datenerfassung bietet das Gerät hervorragende Leistung und Flexibilität für eine Vielzahl von Wafer- und Maskeninspektionsanwendungen.