Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec 210 #114973 zu verkaufen

NANOMETRIE NanoSpec 210 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage zur Überwachung der Oberflächentopographie von Photomasken und Wafern. NANOMETRIE NANO SPEC 210 nutzt die neuesten Technologien in der Rastertunnelmikroskopie, um eine präzise dreidimensionale Abbildung der Oberflächen zur Fehlererkennung und -charakterisierung zu ermöglichen. Sein optisches System wurde entwickelt, um hochauflösende Bilder der Masken- und Waferoberflächen zu erzeugen. NanoSpec 210 besteht aus einer Probenkammer mit vier Quarzstufen zum Positionieren und Scannen. Die ersten beiden Stufen dienen dazu, die Probe in die Kammer zu laden und die Abtastsonde zu positionieren. Die nächsten beiden Stufen werden verwendet, um die Probe mit der Sonde zu scannen. Die Probenkammer hat drei optische Fenster, eines für die Probe und zwei für die Bildaufnahme. NANO SPEC 210 ist mit einer hochauflösenden Rastertunnelmikroskopie (STM) ausgestattet, um hochauflösende Bilder der Oberflächen von Maske und Wafer zu erfassen. Die Maschine verwendet eine Sonde mit einer extrem kleinen Spitze, um sich über die Oberfläche der Probe zu bewegen und hochauflösende Bilder zu erzeugen. NANOMETRIE NanoSpec 210 verfügt über ein integriertes Steuerwerkzeug, mit dem der Benutzer die Geschwindigkeit, Richtung und Leistung des STM-Scanners steuern kann. NANOMETRIE NANO SPEC 210 verfügt über integrierte Funktionen, um die Erkennung von Defekten auf den Oberflächen von Masken und Wafern zu verbessern. Es verfügt über Mustererkennungsalgorithmen zur automatisierten Erkennung von Fehlern. Das Asset verfügt auch über eine Vielzahl von Bildverarbeitungs- und Filterfunktionen, mit denen Benutzer die Bilder analysieren und Fehler erkennen können. NanoSpec 210 ist ein effektives Werkzeug für die Masken- und Waferinspektion. Seine Eigenschaften ermöglichen es Benutzern, die Oberflächentopographie von Masken und Wafern schnell und einfach auf Fehlererkennung und Charakterisierung zu überwachen. Die automatisierten Erkennungsalgorithmen und Bildverarbeitungsfunktionen wurden entwickelt, um die Zuverlässigkeit und Genauigkeit der Fehlererkennung und -charakterisierung zu verbessern. NANO SPEC 210 ist ein effektives Werkzeug zur Überwachung und Analyse von Masken- und Waferoberflächen.