Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec 210 #142743 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec 210 ist ein Masken- und Wafer-Inspektionssystem zur automatisierten und zerstörungsfreien Überprüfung von Masken und Wafern durch verschiedene bildgebende Technologien und Inspektionsmodalitäten. NANOMETRIE NANO SPEC 210 bietet eine umfassende und wiederholbare Lösung für die Masken- und Waferinspektion, einschließlich Partikelinspektion und Fehlerinspektion sowie Überprüfung der Schicht-zu-Schicht-Integration. Die Leistung des NanoSpec 210 basiert auf hochwertiger Optik, dynamischer Bildkorrektur und flexiblen Abbildungsmodi und Modalitäten. Alle Oberflächendefekte und Partikel werden im Dunkelfeld beleuchtet und eine wahre konfokale Ansicht der Resistoberfläche wird genutzt, um Lärm zu reduzieren und die Auflösung zu verbessern. Die Bildverarbeitung wird durch die Kombination eines dynamisch einstellbaren Fensters, spezialisierter Filter und mehrfacher Kontrast- und Kantenverbesserungsmethoden erreicht, wodurch scharfe und klare Bilder erzeugt werden. Das System verfügt über mehrere zerstörungsfreie Inspektionsmodalitäten und bietet die Möglichkeit, Muster und Defekte über eine Vielzahl von Masken- und Waferschichten abzubilden und zu überprüfen. Automatisierte Registrierungsalgorithmen erkennen und messen Partikel genau, während die Validierung von Fehlern nach dem Muster gewährleistet, dass unerwünschte Fehler wie Überbrückungen und Kratzer genau und automatisch erkannt werden. NANO SPEC 210 verfügt zudem über eine automatisierte Fehlerklassifizierung. Fehlertypen wie kurze Hosen, Öffnungen, Unterbrechungen, Kontaktbohrungen und Übergänge werden identifiziert und zur Überprüfung mit Anmerkungen versehen. Mit benutzerdefinierten Regeln kann es auch falsche Öffnungen, Überbrückungen und Kerbfehler identifizieren, um sicherzustellen, dass alle Fehler korrekt charakterisiert und genau verfolgt, aufgezeichnet und behoben werden. NANOMETRICS NanoSpec 210 bietet auch eine Reihe von messtechnischen Lösungen, wie CD-SEM, Linienbreitenmessungen und kritische Dimensionsvariationen. Quantitative CD-Analyse unterstützt außerdem Cross-Wafer-Anomalien und die Identifizierung von CD-Drift und CD-Gleichmäßigkeit, wodurch Layout und Prozessausbeute verbessert werden. Das kompakte und intuitive Design von NANOMETRICS NANO SPEC 210 ermöglicht eine effiziente Einrichtung und Bedienung. Die benutzerfreundliche Software-Oberfläche bietet eine schnelle, einfache Navigation, ergänzt durch eine Reihe von Anleitungen, vorkonfigurierte Workflows und Batch-Verarbeitungsfunktionen. Ein umfassender Installations- und Schulungsservice vor Ort ist ebenfalls verfügbar und bietet Kunden umfassenden Systemsupport und Unterstützung.