Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec 210 #150266 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec 210
ID: 150266
Film thickness measurement systems.
NANOMETRICS NanoSpec 210 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage zur Erkennung von Defekten an Masken und Wafern, die in Halbleiterherstellungsprozessen verwendet werden. Das System sorgt für hohe Bildqualität und Genauigkeit, minimiert Fehlalarme und maximiert die Effizienz. NANOMETRIE NANO SPEC 210 basiert auf zwei Subsystemen: Das erste ist ein Lichtmikroskopmodul, das einen hochauflösenden, vollfarbigen 22-Megapixel-CMOS-Sensor und optische Elemente bietet. Es bietet Mehrschichtfunktionen, die ein schnelles und einfaches Wechseln von Schichttypen ermöglichen. Die eingebaute Autofokuseinheit fokussiert sich automatisch in Sekundenschnelle auf die Probenoberfläche und ein integrierter Autokollimator sorgt für eine genaue Probenausrichtung. Ein erweitertes Optikmodul ermöglicht sowohl die Top-Down-Bildgebung als auch die Bottom-Up-Bildgebung mit einer optionalen manuellen Fokussiereinrichtung für manuelle Operationen. Die zweite ist eine Wafer-Inspektionsmaschine mit den neuesten fortschrittlichen Bildverarbeitungsalgorithmen für hohe Genauigkeit und Durchsatz. Das Werkzeug verwendet GEFÜHRTE Beleuchtungsquelle eines hochwertigen festen Zustands für eine breite Reihe von leichten Bedingungen und hohe Machtoptik, um ein knuspriges und genaues Bild zu sichern. Mit einer schnellen Scangeschwindigkeit von bis zu 4.2MHz kann NanoSpec 210 Fehler schnell und genau identifizieren und klassifizieren. NANO SPEC 210 verfügt auch über eine integrierte Fehlerklassifizierung, die digitale Bildverarbeitungsalgorithmen verwendet, um Fehler bis zu einer Größe von 0,3 µm schnell zu überprüfen. Darüber hinaus ist ein digitales Kennzeichnungsmodell zur Kennzeichnung und Kennzeichnung identifizierter Fehler integriert, was einen verbesserten Workflow und eine bessere Rückverfolgbarkeit ermöglicht. Das Gerät umfasst auch eine intuitive Benutzeroberfläche und ein Softwarepaket, mit dem der Benutzer Wafer und Masken schnell konfigurieren, analysieren und beheben kann. Die automatische Bildgebung wird durch vordefinierte Parameter aktiviert, während Berichte automatisch generiert werden, sobald eine Charge von Wafern überprüft wurde. Insgesamt ist NANOMETRICS NanoSpec 210 ein fortschrittliches und genaues Masken- und Wafer-Inspektionssystem mit hoher Geschwindigkeit und Genauigkeit, intuitiver Benutzeroberfläche und automatisierter Fehlerklassifizierung. Es bietet Anwendern eine zuverlässige und kostengünstige Lösung, um die Produktionszeit zu reduzieren und gleichzeitig qualitativ hochwertige Produkte zu gewährleisten.
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