Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec 210 #9057991 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec 210
ID: 9057991
Wafergröße: 6"
Film measurement system, 6" Dual stage Range of Thicknesses: 100 to 500,000 angstroms Reflectance Mode Thick Films, Reproducibility: 5A ± 5% depending upon the film type Typical Measurement Time: 2.5 seconds Olympus M10x and M40x objective Spot Size: 50 um with 5x objective 25 um with 10x objective 6.5 um with 40x objective Film Types: Oxide on Silicon Nitride on Silicon Negative Resist on Silicon Polysilicon on Oxide Negative Resist on Oxide Nitride on Oxide Polyimide on Silicon Positive Resist on Silicon Positive Resist on Oxide Options available: Olympus M5X and M100X.
NANOMETRICS NanoSpec 210 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die sowohl nominale als auch nicht-nominale Merkmale mit hoher Genauigkeit und Geschwindigkeit inspiziert. Das vollautomatisierte System ist in der Lage, kleine Merkmale und Defekte bis zu 1 µm auf 200 mm Wafern zu messen. Das Gerät enthält Komponenten wie eine hochauflösende Bildverarbeitungsmaschine mit Infrarotoptik, ein optisches Profilometer und einen Waferroboter. Das bildgebende Werkzeug verwendet ein weites Sichtfeld für die Erstprüfung und ein schmales Sichtfeld für die hochauflösende Inspektion. Das optische Profilometer wird für die dreidimensionale Oberflächenprofilierung verwendet, während der Waferroboter für die Handhabung von Wafern und deren korrekte Positionierung auf dem Gerät zur Inspektion verwendet wird. NANOMETRIE NANO SPEC 210 verfügt auch über eine fortschrittliche Datenverarbeitungseinheit, die es ermöglicht, Merkmale, Fehler und nicht-nominale Strukturen schnell zu identifizieren und zu klassifizieren. Das Modell liefert einen detaillierten Bericht und ein Bild von jedem inspizierten Bereich, der zur weiteren Charakterisierung und Verifizierung verwendet werden kann. Das Gerät verfügt auch über verschiedene Software-Tools wie ein Messdatenanalyse-Paket (MDAP) und ein virtuelles Fehlermasken-Review-Paket (VDMR). MDAP hilft bei der schnellen Erkennung und Klassifizierung komplexer Mängel, während VDMR einen umfassenden Überblick über die Untersuchungsergebnisse zur weiteren Diagnose oder Fehlerklassifizierung bietet. NanoSpec 210 eignet sich auch zur Inspektion von Flip-Chip-, mikro-elektromechanischen Systemen (MEMS) und CMOS-Bildern mit hoher Genauigkeit. Es ist eine zuverlässige und kostengünstige Inspektionslösung für eine Vielzahl von Halbleiterprozessen. Das gesamte System ist in einem einzigen Schrank untergebracht, so dass es einfach zu installieren und zu bedienen ist. Die vielseitige Standardkonfiguration ermöglicht eine Vielzahl von Inspektionsaufgaben ohne Hardwareänderungen. Zusammenfassend ist NANO SPEC 210 eine anspruchsvolle Masken- und Wafer-Inspektionseinheit. Es ist schnell, zuverlässig und kostengünstig, so dass es für eine breite Palette von Halbleiteranwendungen geeignet ist. Es kombiniert eine hochauflösende Bildverarbeitungsmaschine, ein optisches Profilometer und einen Waferroboter mit spezialisierter Software zur Inspektion und Klassifizierung von nominalen und nicht-nominalen Merkmalen.
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