Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec 210 #9256979 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec 210 ist eine leistungsstarke Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die Halbleiterdesign und Lithographie-Profis helfen soll, das höchste Maß an Genauigkeit und Zuverlässigkeit für ihre anspruchsvollsten Anwendungen zu erreichen. Das System kombiniert eine breite Palette von Inspektionsmöglichkeiten, wie fortschrittliche Strahlprofilierung, konfokale Mikroskopie und Overlay-Messtechnik, mit einem branchenführenden Automatisierungsniveau, um die höchste Performance-Bildgebung für moderne moderne Geräte zu bieten. Im Kern wird NANOMETRICS NANO SPEC 210 von einer hochauflösenden 5-Achsen-Stufeneinheit angetrieben, die über die gesamte Arbeitsfläche genau steuerbar ist. Diese Stufe ist in der Lage, Wafer bis 300mm Größe zu unterstützen und X-Y-Geschwindigkeiten von bis zu 0,45 Millimeter pro Sekunde zu erreichen. Die Maschine verwendet auch eine fortschrittliche Bildverarbeitungsmaschine, die einen 1664 x 1044 Silizium-CMOS-Bildsensor mit 10x Reduktionsoptik kombiniert, um eine schnelle, hochauflösende Bildverarbeitung zu ermöglichen. Die Strahlprofilierungsfähigkeiten des Werkzeugs sind beispiellos, mit einer breiten Palette von Werkzeugen, um den Einfallswinkel und die Lichtausbreitung zu messen und zu charakterisieren. Das Asset verfügt beispielsweise über eine variable Iris-Funktion, mit der Benutzer die Größe des Strahls für mehr Genauigkeit beim Scannen anpassen können, und über eine polarisierte Beleuchtungsfunktion, die Kontrast verringern und Rauschen verringern kann. Die NanoSpec 210 verfügt auch über hochmoderne Overlay-Messtechnik-Funktionen, mit denen Benutzer Ausrichtungs- und Overlay-Fehler messen können, die mit fortschrittlichen lithographischen Funktionen verbunden sind. Mit einem Messbereich von bis zu 15 Mikrometern und einem Merkmalserkennungsalgorithmus, der Verschiebungen und Fehler automatisch identifizieren kann, macht dieses Modell die Ausrichtungs- und Overlay-Messtechnik zum Kinderspiel. Schließlich bietet die Inspektionsausrüstung auch hochauflösende konfokale Mikroskopie, die Messungen von Merkmalsgröße, Natur und Form weit über die Auflösung der traditionellen Mikroskopie hinaus ermöglicht. Diese hochgenaue Bildgebungstechnik kann verwendet werden, um Submikron-Strukturen und -Merkmale genau zu messen, so dass Benutzer auch die geringsten Abweichungen erkennen können. Alles in allem ist NANO SPEC 210 ein leistungsstarkes Masken- und Wafer-Inspektionssystem, das die Strenge selbst anspruchsvollster Halbleiteranwendungen erfüllt. Mit seinen robusten Bildgebungs- und Messfähigkeiten ist dieses Gerät perfekt geeignet, um höchste Genauigkeit und Zuverlässigkeit zu liefern.