Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec 210 #9374756 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec 210 ist eine hochmoderne optische Vollfeld-Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die fortschrittliche Bildgebungstechnologie zur präzisen und genauen Fehlererkennung und -charakterisierung verwendet. Dieses System nutzt eine fortschrittliche optische Inspektionseinheit, die auf einem Phasenverschiebungs-Interferometer (PSI) basiert. Dieses Interferometer verwendet mehrere Laserquellen und eine einzigartige Quadranten-Spiegelungsmaschine, um einen vollständig kohärenten Lichtstrahl zu erzeugen, der dann auf die zu inspizierende Maske oder Wafer gerichtet wird. Das Werkzeug misst dann alle Variationen oder Defekte in der Probenoberfläche präzise und genau, so dass außergewöhnlich genaue Scans und Inspektionsergebnisse möglich sind. Die Maske und Wafer Inspektion Asset verfügt auch über erweiterte Bildgebungs- und Steueralgorithmen, die entworfen sind, um große und kleine Fehler zu erkennen und genau zu messen. Diese Algorithmen ermöglichen es dem Modell, sowohl tiefe als auch flache Fehler genau zu erkennen und abzubilden, um sicherzustellen, dass keine potenziell schädigenden Fehler übersehen werden. Darüber hinaus bieten diese Algorithmen überlegene Masken- und Waferausrichtungsfunktionen im Vergleich zu herkömmlicheren Inspektionssystemen. NANOMETRIE NANO SPEC 210 verfügt auch über hochentwickelte digitale Bildverarbeitungstechnologie, die die genaue Messung von Defekten mit über 8 Millionen Pixeln ermöglicht. Diese Bildauflösung ermöglicht es dem System, in-situ-Inspektionen mit hoher Genauigkeit durchzuführen, wodurch Benutzer potenzielle Fehlerbereiche schnell und genau identifizieren können, bevor weitere Verarbeitungs- oder Korrekturmaßnahmen ergriffen werden. Die NanoSpec 210 verfügt auch über mehrere andere Funktionen wie die dynamische Kontraststeuerung, die die automatisierte Steuerung des Bildkontrasts des Geräts ermöglicht, und die Fähigkeit, halbautomatische Inspektionen durchzuführen, was einen minimalen Eingriff des Bedieners erfordert. Darüber hinaus unterstützt die Maschine auch vollfeldautomatisierte Bildnähte, die eine schnelle Erfassung einheitlicher und wiederholbarer Daten ermöglichen. Dadurch kann das Werkzeug auch den Ort potenzieller Defekte schnell ermitteln. Abschließend ist NANO SPEC 210 eine hochentwickelte Masken- und Wafer-Inspektion, die fortschrittliche Bildgebungstechnologie, digitale Bildverarbeitung und ausgeklügelte Algorithmen verwendet, um selbst kleinste Fehler genau zu erkennen. Die erweiterten Funktionen des Modells, einschließlich der dynamischen Kontraststeuerung und der vollfeldautomatischen Bildnahtfunktionen, ermöglichen überlegene Inspektionsergebnisse und senken die Produktionskosten erheblich.