Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec 2100 #293652555 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec 2100 ist eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsanlage für den Einsatz in der Halbleiterherstellung. Es bietet eine überlegene Bildauflösung, Empfindlichkeit und Geschwindigkeit im Vergleich zu herkömmlichen optischen Systemen und sorgt für optimale Produktqualität und Zuverlässigkeit. Das optische System der NanoSpec verfügt über ein verstellbares Zoomobjektiv, das zur Inspektion von Photomasken und Retikeln bis zu einer Größe von 200 mm kalibriert ist. Das Gerät unterstützt auch hohe Vergrößerungsgrade bis zu 500x. Darüber hinaus ist die Optik auf der NanoSpec entwickelt, um die Auswirkungen von Umgebungslicht und Streustrahlung zu reduzieren, so dass sie gut geeignet ist, subtile Defekte im Nanometermaßstab zu erkennen. Die NanoSpec verfügt zudem über einen effizienten motorisierten Bühnenmechanismus. Dies ermöglicht es, sowohl Wafer als auch Masken schnell und präzise mit einer Wiederholbarkeit von ± 0,1 µm zu scannen. Die Maschine verwendet auch eine helle LED-Lichtquelle, die optimale Lichtbedingungen bietet, um kritische Fehler zu identifizieren. Darüber hinaus verfügt die NanoSpec über Hochgeschwindigkeitserkennungs- und Analysefunktionen. Die integrierte Verarbeitungseinheit kann unnötige Bilder identifizieren und entfernen, sodass Bilder mit hoher Dichte schnell gescannt werden können. Darüber hinaus bietet es detaillierte Inspektionsergebnisse - einschließlich Merkmalsgröße, Form und Prozesskontrolldaten - in mehreren Formaten und eignet sich somit gut für die Prozessbehandlung und Datenanalyse. Schließlich ist die NanoSpec auf Benutzerfreundlichkeit ausgelegt. Es verfügt über eine intuitive Benutzeroberfläche, so dass Benutzer das Tool einfach einrichten und steuern können. Darüber hinaus können Anwender mit ihren eingebauten Sicherheitsmechanismen die Anlage ohne zusätzliche Schutzausrüstung sicher bedienen. Abschließend ist NanoSpec 2100 ein fortschrittliches und hochqualitatives Masken- und Wafer-Inspektionsmodell. Es bietet überlegene Bildauflösung, Empfindlichkeit und Geschwindigkeit, um subtile Fehler zu identifizieren und zu beheben, so dass es ideal für die Halbleiterherstellung und -prüfung ist.