Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec 2100 #9272568 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec 2100 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage der nächsten Generation, die die Analyse und Produktionsoptimierung von optischen Photomasken und ICs ermöglicht. Das System nutzt fortschrittliche optische Bildgebungstechnologien und 3D-Mapping, um Fehlerbilder mit beispielloser Genauigkeit und Treue zu erfassen und zu analysieren, wodurch eine vollständige und genaue Einsicht in den Herstellungsprozess ermöglicht wird. NanoSpec 2100 bietet echte dreidimensionale Fehlerbewertung und erweiterte optische Messfunktionen und liefert schnellere und präzisere Informationen, die die Entwicklung und Produktion von integrierten Schaltungsgeräten und Masken beschleunigen. Das Gerät misst Funktionsfehler bis 0,005 μ m Größe und verfügt über einen einstellungsfreien statistischen Messtechnik-Algorithmus zur automatisierten Erkennung und Charakterisierung von Waferdefekten. NANOMETRICS NanoSpec 2100 ist ideal für die detaillierte Fehleranalyse und Überprüfung, die automatische Erkennung und genaue Bemessung von Defekten, Hohlräumen und Gruben. Die fortschrittlichen Hardware- und Softwareprüfungen der Maschine liefern umfassende Ergebnisse für die Wafer- und Maskenfehlerinspektion, die eine detaillierte Bewertung von Maskierungs- und Kompositionsabweichungen über mehrere Ebenen und Standorte hinweg ermöglichen. Wafermessungen können sowohl in Einzelfehler- als auch in Mehrfachfehlermodi durchgeführt werden, wobei Fehlerlistungs-, Sortier- und Analysefunktionen eine effiziente Möglichkeit zur Behebung von Fehlermechanismen und -bereichen bieten. Die Software-Schnittstelle des Tools unterstützt das Bedienertraining und ermöglicht es Benutzern, den Inspektionsprozess anzupassen und Kriterien zu definieren, um sich auf die Bereiche von größtem Interesse zu konzentrieren. NanoSpec 2100 Asset ermöglicht auch die Übertragung von Fehlerbildern und Daten auf andere Datenbanksysteme und eignet sich somit ideal für die gemeinsame Nutzung von Daten, die Analyse, die Parametereinstellung und den Abruf innerhalb des Herstellungsprozesses. Insgesamt ist NANOMETRICS NanoSpec 2100 ein fortschrittliches Inspektionsmodell, das überlegene Funktionen zur Fehlerbildgebung, -bewertung und -optimierung bietet und einen effizienteren und zuverlässigeren Prozess bei der Erstellung von Photomasken und ICs ermöglicht. Mit seiner automatisierten Fehlererkennung und 3D-Kartierung trägt die Ausrüstung dazu bei, die Durchlaufzeit zu reduzieren und eine genaue Analyse des Herstellungsprozesses sicherzustellen.