Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec 3000 #9187358 zu verkaufen
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ID: 9187358
Wafergröße: 3"-6"
Weinlese: 2006
Film thickness measurement system, 3"-6"
With IRVINE Ultrastation 3.B autoloader
Solid stage linear diode array detector
(15) Standard film types
Measurement time: 0.25 s to 4 s per site
Data management:
Statistical data analysis
Data export (ASCII)
Hardware configuration:
Optics: 10x
Spot size: 25 μm
Computer: 333 MHz PC With 3.2 G hard dive, 64 RAM
Performance:
Film: (3) Layers
Film thickness range: 250 A to 35 µm
Wavelength range: 480-800 nm
Reproducibility: <2 A
Electrical power:
117±5% VAC, 50/60 Hz, 5 A
230 V, 50/60 Hz, 2.5 A
2006 vintage.
NANOMETRICS NanoSpec 3000 ist eine Maske & Wafer Inspektion Ausrüstung entwickelt, um die anspruchsvollsten Anforderungen der Branche zu erfüllen. Es verfügt über ein Hochgeschwindigkeits-, hochauflösendes digitales Bildgebungssystem und eine fortschrittliche, proprietäre Tool-Suite, die auf die Inspektion von Masken und Wafern mit hoher Genauigkeit und Wiederholbarkeit zugeschnitten ist. Die fortschrittlichen optischen und mechanischen Komponenten des Geräts ermöglichen eine Vielzahl kritischer bildgebender Anforderungen. Es verfügt über diagonale optische Objektive mit variablen Zoomfunktionen und einem hochreflektierenden Penta-Prisma-Bildspiegel, der eine optimale Bildaufnahmegeschwindigkeit und Wiederholbarkeit gewährleistet. NanoSpec 3000 verwendet auch eine digitale motorisierte XY-Messer-Laser-Autofokus-Maschine, die einen stabilen, dynamischen Fokus auf alle Bereiche des Wafers oder der Maske bietet. NANOMETRICS NanoSpec 3000 enthält auch eine Reihe von Funktionen, die die Nützlichkeit des Tools erweitern, wie das Maskenanalyse-Tool. Dies ist darauf ausgelegt, Masken während des Wafer-Herstellungsprozesses genau mit dem ursprünglichen Design zu vergleichen. Es führt Maskenparameterextraktion schnell und präzise, mit fortschrittlichen Algorithmen für optische und geometrische Verzerrungen zu korrigieren. Das Asset bietet auch einen optionalen geometrischen Verzerrungskorrekturalgorithmus, der es Anwendern ermöglicht, bei der Herstellung von Photomasken eingeführte Aberrationen zu berücksichtigen. Dies wird mit einem proprietären Array von Parametern erreicht, um sicherzustellen, dass die Bilder perfekt auf das ursprüngliche Design ausgerichtet bleiben. Darüber hinaus bietet NanoSpec 3000 eine Reihe von Datenerfassungsoptionen, einschließlich des Nanometer® Digital Imaging Modells. Diese Ausrüstung verbindet ein hochauflösendes, schnelllaufendes Bildanschaffungssystem mit einem Gefolge der fortgeschrittenen Datenanalyse und Bildverarbeitungswerkzeuge. Es wurde entwickelt, damit Benutzer die von NANOMETRICS NanoSpec 3000 erzeugten Daten schnell und einfach überprüfen, vergleichen und analysieren können. NanoSpec 3000 bietet darüber hinaus ein breites Spektrum an optionalem Zubehör, wie eine automatisierte Wafer-Handhabungseinheit, eine Robustwafer-Identifikationsmaschine und ein leistungsstarkes Visualisierungswerkzeug. Alle diese Eigenschaften machen NANOMETRICS NanoSpec 3000 zu einer idealen Wahl für die anspruchsvollen Masken- und Wafer-Inspektionsbedürfnisse der Halbleiterindustrie.
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