Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec 3000 #9386854 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec 3000 Maske und Wafer Inspection Equipment ist ein fortschrittliches, hochauflösendes Inspektionssystem, das entwickelt wurde, um die Größe und die Eigenschaften von Formwerkzeugen auf Masken und Wafern genau zu beurteilen. Sie wird in der Forschung und Entwicklung neuer Produkte sowie bei der Herstellung integrierter Schaltungen eingesetzt. NanoSpec 3000 verfügt über eine luftlagerbasierte, hochauflösende Bildaufnahme- und Signalverarbeitungseinheit zur Untersuchung von Submikron-Strukturen auf Masken und Wafern. Die Maschine beinhaltet ein automatisiertes Vision-Tool, mit dem Bereiche von wenigen Mikrometern bis zu mehreren hundert Mikrometern schnell analysiert und abgebildet werden können. Darüber hinaus ist es in der Lage, Bilder aus einer Vielzahl von Winkeln zu schnappen, einschließlich 75 °, 60 ° und 45 °, so dass der Benutzer ein vollständiges visuelles Bild des Objekts zu überprüfen. Im Gegensatz zu anderen Inspektionssystemen verfügt NANOMETRICS NanoSpec 3000 auch über eine Präzisionssichtverschiebungsstufe, die die Probe in x-, y- und z-Richtung bewegen kann, so dass präzise Messungen vorgenommen werden können. Dadurch kann der Anwender präzise Messdaten manuell anpassen und extrahieren sowie die gesamte Matrize auf unregelmäßige Merkmale analysieren. Der Vermögenswert hat auch die Fähigkeit, zerstörungsfreie Wafertests und -analysen durchzuführen. Mithilfe von Echtzeit-Bildgebung und mehreren Regionen, die von Interesse sind, können Benutzer schnell auf Daten zu verschiedenen Waferstrukturen und -komponenten zugreifen und diese überprüfen. Dieser Prozess kann helfen, die Integrität von lokalen Defekten und/oder Aberrationen auf den zu testenden Wafern zu bewerten, ohne das Design zu stören. NanoSpec 3000 zeigt auch ein in einer Prozession gehendes Hochleistungsechtzeitmodell, um kritische Dimensionen (CDs) mit optischen Digitalmethoden zu analysieren. Darüber hinaus können Benutzer Suboberflächenbilder von ICs unter Verwendung der Photoemissionsmikroskopie erfassen oder spektrale Messungen zur Analyse von Anzeigeparametern und zur Prüfung spektraler Veränderungen durch Filme oder Prozessparameter verwenden. Schließlich werden mit der Masken- und Wafer-Inspektionseinrichtung auch Berichte über die während der Prüfung generierten Daten erstellt. Dies kann bei der Prozessbehebung und der Verbesserung der Gesamtausbeute im Produktionsprozess helfen. Zusammenfassend ist NANOMETRICS NanoSpec 3000 ein leistungsfähiges Inspektionssystem, das eine vollständige visuelle Analyse von Masken und Wafern ermöglicht. Es schließt Eigenschaften wie eine automatisierte Visionseinheit, eine Präzisionsvisionsversetzungsbühne, nichtzerstörender Oblatentest und Analyse und eine Hochleistungsechtzeitarbeitsmaschine ein. Alle diese Funktionen kombiniert machen NanoSpec 3000 eine ideale Wahl für die genaue Bewertung von Funktionsgrößen und Werkzeugeigenschaften auf Masken und Wafern.