Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec 4000 #6696 zu verkaufen
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ID: 6696
System
Head assy:
Photomultiplier tube
Wavelength gears
Voltage regulator PCB
Realign head optics
Computer assy: CS-9
Main power supply
RAM/ROM PCB
R&R all PCB's
PC computer:
NANO 4000
Microscope assy:
R&R microscope stand and stage assy with focusblock
Stage addy with 6" capability
Microscope lamp
Optics 5x, 10x, and 50x (15x for UV)
Color monitor with keyboard
Optional:
8" wafer capability
Photomultiplier tube
Standard film type measured: / Typical range: / Typical repeatability:
Single layer films visible UV: / 500-50.000A, 25-500* / 2A
Triple layer films consult factory: / - / -
Single layer thick films visible: / 4 - 75 micron* / 1%
Double layer thick films consult factory: / - / -
Reflectance visible UV: / 400-850 run, 200>400nm / 0.4%, 0.2%
Oxide on poty UV: / 150-10.000A / 2A
Oxide on metal visible UV: / 3,000-20,000*, 500-5,000A / 3A, 3A
Double layer films visible:
Top layer / 100-30.000A / 2A
Bottom layer / 100-10.000X / 8A.
NANOMETRICS NanoSpec 4000 ist eine leistungsstarke Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die eine vollständige Abdeckung Ihres Halbleiterproduktionsprozesses ermöglicht. Unter Verwendung fortschrittlicher optischer Bildgebungstechnologie bietet diese Plattform nanoskalige Genauigkeit und Wiederholbarkeit und ermöglicht die Wafer- und Maskeninspektion mit beispielloser Genauigkeit und Geschwindigkeit. Das System ist in der Lage, Geräte von 2 Mikrometer bis 2 Millimeter Größe zu überprüfen und kann programmiert werden, um Merkmale mit Abmessungen bis zu 10 nm Größe zu erkennen und zu messen. Im Kern ist NanoSpec 4000 mit einem automatisierten Masken- und Waferinspektions-Subsystem ausgestattet, das das Layout einer einzelnen Schicht anhand eines Mustererkennungsalgorithmus überprüft, um die gewünschte Schicht mit der tatsächlichen Schicht zu vergleichen. Die Einheit ist in der Lage, kleinste Merkmalsgrößen mit einer außergewöhnlichen Genauigkeit und Wiederholbarkeit zu erfassen, und ihre automatisierte Optik ermöglicht eine schnelle, hochpräzise Bildverarbeitung, um selektiv nur die gewünschten Bereiche des Musters auszuwerten. NANOMETRICS NanoSpec 4000 bietet auch erweiterte Messfunktionen, mit der Plattform in der Lage, mehrere Oberflächentopographieparameter zu erfassen, zu speichern, zu analysieren und zu interpretieren. Mit nanoskaligen Präzisionen ist die Maschine in der Lage, hochgenaue Oberflächenmessungen, Min/Max-Werte und Oberflächenrauhigkeitsmöglichkeiten zu erzeugen. Dieser Vorteil erstreckt sich sowohl auf vertikale als auch auf horizontale Messungen und kann Herstellern helfen, Probleme, die in ihren Wafer- oder Maskendesigns auftreten, genau zu messen und zu diagnostizieren. Erweiterte Bildkorrektur- und Bildanalysefunktionen ermöglichen eine genaue Ausrichtung der Maske und des Wafers, während echte Farbbrillanz dafür sorgt, dass die ausgegebenen Bilder helle und genaue Farben haben. Integrierte Dateneingabe, Hardware-/Software-Testprogrammierung und Kalibrierungsfunktionen sowie eine Reihe professioneller Analyse- und Prüfwerkzeuge stehen zur Verfügung. NanoSpec 4000 wurde entwickelt, um den Qualitätskontroll- und Inspektionsanforderungen der heutigen hochpräzisen Fertigungsumgebung gerecht zu werden. Seine unübertroffene Kombination aus Genauigkeit und Wiederholbarkeit, kombiniert mit fortschrittlichen Bildgebungs- und Messfähigkeiten, bieten die notwendige Sicherheit, um sicherzustellen, dass Ihre Halbleiterproduktion mit Höchsteffizienz läuft.
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