Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec 6100 #293768860 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec 6100 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage, die für hohe Genauigkeit, Flexibilität und Geschwindigkeit ausgelegt ist. Es ist optimiert, um ertragskritische Fehler in fortgeschrittenen Halbleiterbauelementen schnell und genau zu identifizieren. Das System ist mit einem 5-Achsen-Abbildungskopf mit erweiterter Tiefenschärfe ausgestattet, um volle Wafer bis 200 mm Durchmesser abzubilden. Es verfügt über eine erweiterte Musterverbesserungseinheit, die Ungleichmäßigkeits- und Nichtlinearitätseffekte von Standort zu Standort eliminiert. NanoSpec 6100 bietet mit seiner hochauflösenden, farblich abgestimmten CCD-Kamera und der statistischen Analyse mit Vollwafern eine hervorragende Hotspot-Erkennung für lithographiebedingte Defekte. Die hochgenaue Stufe kann bis zu 4 Aufnahmen pro Wafer zur schnellen Visualisierung und statistischen Fehleranalyse abbilden. Es verfügt über Kontur- und Kanteninterpretations- und CD-Messfunktionen, um CD-Ungleichmäßigkeit und andere ertragskritische Fehlertypen zu erkennen und zu analysieren. Die Maschine ist auch in der Lage, mit ihrer farbigen Bildgebungstechnik eine einfache Fehlerisolierung durchzuführen. NANOMETRICS NanoSpec 6100 basiert auf einer modularen, offenen Plattform, die mit einer Reihe von Inspektionsstrategien, Technologien und verschiedenen Programmiersprachen kompatibel ist. Es bietet eine Vielzahl von Benutzeroptionen für Anpassungen, Bildpufferung und Feldtrennungen. Es wird entworfen, um mit anderen NanoSpec-Werkzeugen und mit Außenmetrologiesystemen für der Länge nach Defektcharakterisierungslösung zu integrieren. Eine hochmoderne Bildgebungs- und Messtechnik-Umgebung steht dem Anwender auch mit Funktionen wie einer Vielzahl von Bildverarbeitungsparametern, anpassbaren Farbpaletten und vordefinierten Ausführungs- und Analysetools zur Ertragsoptimierung zur Verfügung. Das Tool bietet auch einfach zu bedienende Programmier- und Setup-Tools, einschließlich WYSIWYG-Programmierfunktionen und grafische Darstellung von geprüften Geometrien für eine einfachere Bedienung. NanoSpec 6100 ist ein robustes, zuverlässiges und flexibles Werkzeug zur effizienten Masken- und Waferinspektion. Die fortschrittlichen Funktionen zur Bildgebung und Mustererkennung, die erweiterten Funktionen zur CD-Messung und Kanteninterpretation sowie die benutzerfreundliche Oberfläche machen dieses Asset zu einem unschätzbaren Werkzeug für die Fehleranalyse auf Masken- und Waferebene in Halbleiterherstellungsprozessen.