Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec 6100 #293795183 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec 6100 ist eine fortschrittliche Maske und Wafer Inspektion Ausrüstung entwickelt, um genau und effizient sowohl Masken und Wafer gleichzeitig zu überprüfen, so dass der Benutzer schnell alle Fehler an beiden Arten von Werkstücken zu identifizieren. Das System bietet mehrere Betriebsarten und ist in der Lage Top-down, Bottom-up und harte Maske Inspektionsmodi, so dass der Benutzer Fehler in jeder Höhe zu erkennen und zu überprüfen. Mit einer breiten Palette von Betrachtungsmodi ist NanoSpec 6100 in der Lage, Pixel-für-Pixel-Analysen der Wafer und Masken bereitzustellen, so dass der Benutzer subtile Fehler identifizieren kann, die mit herkömmlichen Inspektionsmethoden schwer zu erkennen wären. Das Gerät umfasst auch erweiterte Bildgebungsfunktionen wie Oblique Illumination (OI) und Dark-Field Illumination (DFI), um den Kontrast zu maximieren und die Fehlererkennung zu verbessern. Diese Funktionen können verwendet werden, um Funktionen und Funktionen aufzudecken, die mit anderen Beleuchtungstechniken nicht sichtbar sind, wie z. B. Seitenwandfehler, fehlende Vias und Kontakte. Mit der optionalen fortschrittlichen Farbkamera ist NANOMETRICS NanoSpec 6100 in der Lage, automatische rote, grüne und blaue ICCD-Kamerabilder, LED und Blitzfarbbeleuchtung und True Color Edge Detection durchzuführen. Die Maschine verfügt auch über eine Reihe von automatisierten Inspektionswerkzeugen, um die Produktivität zu maximieren, einschließlich automatisierter Werkzeugsynchro-Scan, automatisierte Scan-Frequenzoptimierung, automatisches Stichen für die Großflächeninspektion und automatische Fokusoptimierung. Das Asset umfasst auch eine Reihe einzigartiger Funktionen wie ein optionales Hintergrundbeleuchtungsmodul, Vektortrajektorienscannen, automatische Fehlerkompensation, Tiefenabstimmung und ein Modul für die Online-Fehlerüberprüfung. NanoSpec 6100 verfügt über einen effizienten Workflow mit optimierten Funktionen wie automatische Fehlererkennung, Klassifizierung und automatische Berichtsgenerierung, die die Inspektionszeit reduzieren und die Produktivität verbessern können. Das Modell enthält auch leistungsstarke Datenverwaltungstools für umfassende Überprüfung, Analyse und Vergleich von Wafer- und Maskendaten, die für die Inspektion von Top-Down, Bottom-Up und Hard Mask verwendet werden können. NANOMETRICS NanoSpec 6100 ist eine vollautomatische und vielseitige Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die die Produktivität erhöht und die Genauigkeit verbessert. Mit einer Reihe von bildgebenden Funktionen und fortschrittlichen Automatisierungswerkzeugen ist NanoSpec 6100 ideal für die Verknüpfung von Wafer- und Maskeninspektion und für zuverlässige Erträge.