Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec 6100 #9021098 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec 6100 ist ein Masken- und Wafer-Inspektionsgerät, das seine fortschrittlichen optischen Bildgebungsfunktionen nutzt, um die höchste Auflösung bei der Inspektion von Halbleitermasken und Wafern zur Verfügung zu stellen. Dieses System bietet eine Komplettlösung für die Masken- und Wafer-Inspektion, mit der Anwender die Konstruktionsgenauigkeit und Regelkonformität während aktiver Wafer-Fertigungsprozesse schnell und einfach überprüfen können. Die NanoSpec 6100 ist mit einer Vielzahl fortschrittlicher optischer Bildgebungssysteme ausgestattet, darunter die konfokale Laserscanmikroskopie (LSCM) und die punktuell projizierte konfokale 3D-Mikroskopie (PPCM). Es kann Wafertypen abbilden, die von Siliziumdioxid (SiO2) bis zu 4-Zoll-Epi-Substraten reichen, während es eine hochauflösende Abbildung kritischer Muster auf Masken und Wafern bietet. NANOMETRICS NanoSpec 6100 ist auch mit einer Arc ~ Link-Funktion ausgestattet, die die Integration mit automatisierten Inspektionswerkzeugen ermöglicht, um den Masken- und Waferinspektionsprozess zu optimieren. Diese Integration ermöglicht die automatische Aktualisierung einer Vielzahl von Parametern und ermöglicht gleichzeitig die Echtzeitanalyse der verarbeiteten Inspektionsdaten. Die NanoSpec 6100 ist in der Lage, eine Geschwindigkeitsanpassung vorzunehmen, die einen schnelleren Geschwindigkeitsdurchsatz und eine verbesserte Zuverlässigkeit des Instrumentendurchsatzes ermöglicht und gleichzeitig eine verbesserte Testabdeckung bei Änderungen oder Defekten der Probenfläche ermöglicht. Das Gerät verfügt über eine hochempfindliche Detektormaschine, die hochentwickelte Auflösungen bis zu 0,1 Mikron ermöglicht, während die Genauigkeit der Vergrößerungseinstellungen mit Nanogenauigkeit weiter verbessert wird. Darüber hinaus ist dieses Werkzeug mit einer einzigartigen Doppelfokus-Kompensationsfunktion ausgestattet, die eine optimale Masken- und Wafer-Fokussierung auch bei Fehlstellungen der Probe ermöglicht. NANOMETRICS NanoSpec 6100 wird auch mit einer leistungsstarken Verarbeitungsmaschine geliefert, die eine optimale Bildverbesserung ermöglicht. Diese Bildverbesserung ermöglicht die Inspektion feinerer Muster und die Entfernung optischer Artefakte. Mit einer kombinierten Inspektions- und Messtechnik ist NanoSpec 6100 in der Lage, die umfassendste Lösung zur aktiven Überwachung der Qualität von Masken und Wafern während ihres Herstellungsprozesses bereitzustellen. Dieses Modell wird mit einer Vielzahl von Funktionen verpackt, so dass es schwierig zu bildende Geometrien und Materialien genau inspizieren kann. NANOMETRICS NanoSpec 6100 verwendet spezialisierte Techniken, wie polarisierte Beleuchtung und mehrere Ebenen des Fokus zu kehren, um Linderung von optischen Artefakten zu bieten. Die fortschrittlichste Version von NanoSpec 6100 ist das Modell M-821-RF, das ein volles Sichtfeld von 81,25 Tonnen Ansicht bietet und es für die meisten Masken- und Wafertypen anwendbar macht. Abschließend ist NANOMETRICS NanoSpec 6100 eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die dem Anwender überlegene optische Bildgebungsfunktionen, Geschwindigkeitsanpassung, Nanogenauigkeit und eine leistungsstarke Verarbeitungsmaschine bietet. Dieses System verfügt auch über eine Vielzahl von erweiterten Bildverbesserungsoptionen, wie polarisierte Beleuchtung und mehrstufige Fokussierung, so dass der Benutzer schwer zu bildende Geometrien und Materialien überprüfen kann. Durch die Bereitstellung einer integrierten Inspektions- und Messtechnik ermöglicht die NanoSpec 6100 eine genauere und genauere Überwachung der Gesamtqualität von Masken und Wafern während des Herstellungsprozesses.