Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec 6100 #9021461 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec 6100 ist eine leistungsstarke Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die eine hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit für die Masken- und Wafer-Inspektion und Fehlerkontrolle bietet. Das System nutzt die neuesten Bildgebungs- und Messtechnologien, um sicherzustellen, dass nur hochwertige Designs und Wafer hergestellt werden können. NanoSpec 6100 inspiziert Masken- und Wafer-Defekte mit Submikron-Auflösung und Genauigkeit und verwendet fortschrittliche Mustererkennungsalgorithmen und Messtechniken, um Ausreißer im Design zu identifizieren und zu markieren. Das Gerät verwendet RapidScan-Laserbilder zur Maskenausrichtung und -verifizierung, die eine hochgenaue Inspektion ganzer Maskenmuster und Wafer auch in größerem Bauraum ermöglichen. Die Maschine verfügt außerdem über eine hochauflösende Kamera, die eine Bildaufnahme des erfassten Materials für die Nachanalyse ermöglicht. Es ist in der Lage, simultane Fokus-, Verschiebungs- und Vergrößerungsmessungen vorzusehen und verfügt über ein integriertes programmierbares Beleuchtungswerkzeug. Eine breite Palette von anpassbaren Parametern sind verfügbar, einschließlich optischer Korrektur, um die Kosten für die Anwenderkalibrierung zu reduzieren. NANOMETRICS NanoSpec 6100 umfasst eine Reihe von automatisierten Testroutining- und Fehlermessfunktionen, die eine rationelle Analyse und Optimierung von Designmodellen sowie eine erweiterte Fehlermaskierung ermöglichen. Es bietet seinen Anwendern flexible Programmiermöglichkeiten und eine robuste Automatisierung von Testmustern und Fehlermessanalysen. Für Anwendungen mit hohem Durchsatz ist NanoSpec 6100 auch mit einer Mehrkammer-, 4-Feld-10-Wafer-Automatisierungsstation erhältlich. Diese Station ist in der Lage, 10 Wafer mit bis zu 4 verschiedenen Feldbildern pro Wafer gleichzeitig zu testen und zu analysieren. Dies spart erhebliche Zeit beim Testen komplexer Arrays und Elemente. NANOMETRICS NanoSpec 6100 ist ein vielseitiges und leistungsstarkes Werkzeug zur Analyse und Optimierung von Wafer- und Maskendesigns. Mit seiner hohen Zählauflösung, wiederholbaren Ergebnissen und automatisierten Testroutinen können Benutzer sicher sein, dass sie die höchste Qualität und Genauigkeit in ihren Designs und Wafern erhalten.